產(chǎn)品型號(hào)

VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀

主要特點(diǎn)

1、特別為SEM樣品鍍導(dǎo)電性薄膜設(shè)計(jì)。

2、體積小巧，操作簡(jiǎn)單，容易上手。

3、擁有小型磁控靶頭，可以鍍金銀鉑等金屬。

技術(shù)參數(shù)

1、輸入電源：220V AC 50/60Hz

2、功率：200W

3、輸出電壓：500 VDC

4、濺射電流：0-50 mA可調(diào)

5、濺射時(shí)間：0-120S可調(diào)

6、濺射腔體

1）采用石英腔體，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2）密封：采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈

7、濺射頭&樣品臺(tái)

l）濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸，厚度0.1 - 2.5mm

      2）濺射時(shí)間1-120S可調(diào)

3）儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺(tái)，其與濺射頭之間距離30-80mm可調(diào)。

      4）可選購(gòu)加熱型樣品臺(tái)，其加熱溫度為500℃

      5）安裝有一可手動(dòng)操作的濺射擋板，可進(jìn)行預(yù)濺射

6）可制膜的直徑為:4英寸（僅供參考，詳情請(qǐng)點(diǎn)擊）

8、真空系統(tǒng)

l）安裝有KF25真空接口

2）數(shù)字真空壓力表（Pa）

3）此系統(tǒng)可通入氣體運(yùn)行

4）< 1.0E-2 Torr （采用機(jī)械泵）

5）< 1.0E-5 Torr（采用渦旋分子泵）

9、進(jìn)氣

l）設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口，方便連接氣瓶

   2）設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流

10、靶材

   l）靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

   2）設(shè)備標(biāo)配為銅靶

11、產(chǎn)品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

凈重：20 kg（不包括泵）

可選

1、可在本公司選購(gòu)各種靶材

對(duì)于濺射各種金屬靶材，需要摸索的濺射參數(shù)，下表是本公司實(shí)驗(yàn)所設(shè)置的參數(shù)，歡迎您帶料來科晶實(shí)驗(yàn)室摸索工藝（僅供參考）

2、可在本公司選購(gòu)各種真空泵

3、可在本公司選購(gòu)薄膜測(cè)厚儀安裝在濺射儀上

質(zhì)量認(rèn)證

CE認(rèn)證

質(zhì)保期

一年保修，終身技術(shù)支持。

特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

         2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

使用提示

l、有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜

2、在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺(tái)的潔凈

3、要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請(qǐng)?jiān)跒R射前清潔基材表面

4、超聲波清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：（1）丙酮超聲，（2）異丙醇超聲-去除油脂，（3）吹氮?dú)飧稍?，?）真空烘箱除去水分。

5、等離子清洗（詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。

6、制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

7、請(qǐng)使用>5N純度氬氣等離子體濺射

8、濺射鍍膜機(jī)可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射

9、由于能量低，該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al，Mg，Zn，Ni。請(qǐng)考慮我們的磁控濺射鍍膜機(jī)或熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)。

超聲波清洗機(jī)	等離子清洗機(jī)	大功率磁控濺射儀	蒸發(fā)鍍膜儀

警告

注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動(dòng)機(jī)體。

氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。

濺射頭連接到高電壓。

為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶頭。