150AT全自動測量系統(tǒng)
全自動應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)
150AT 應(yīng)力雙折射系統(tǒng)是應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)家族系列產(chǎn)品。該應(yīng)力雙折射測量系統(tǒng)既可作為實驗室科研探索測量光學(xué)組件應(yīng)力分布測量，也可用作諸如玻璃面板，透鏡，晶體，硅/多晶硅、注塑成品等工業(yè)生產(chǎn)中檢測產(chǎn)品應(yīng)力分布。產(chǎn)品軟件直觀顯示待測樣品應(yīng)力情況，便于操作和日常監(jiān)測。
150AT 應(yīng)力雙折射系統(tǒng)可以根據(jù)客戶需求選擇設(shè)置，使得測量更有針對性（高精度/大范圍相位延遲量），系統(tǒng)有著測量速度的同時也具有的測量分辨能力（<1 mm="" grid="" spacing="">等設(shè)計來幫助客戶完成一些非常規(guī)掃描/測量需求。
產(chǎn)品特點
自動X/Y位移平臺掃描
二維/三維圖形/參數(shù)表格顯示樣品應(yīng)力分布測量結(jié)果
臺式整機設(shè)計組裝
靈活位移平臺設(shè)計，滿足個性化定制需求
強大數(shù)據(jù)擬合分析功能和友好用戶界面
參數(shù)
| 高精度測量系統(tǒng)選項 | 大范圍相位延遲量測量選項 |
相位延遲量范圍: | 0.005 to 120+ nm | 0.005 to 300+ nm |
相位延遲量測量分辨率/
重復(fù)精度1, 2, 3: | 0.001 nm / ± 0.008 nm | 0.0 1 nm / ± 0.015 nm |
角度測量分辨率 /
重復(fù)精度1: | 0.01o / ± 0.05° | 0.01o / ± 0.07° |
測量速率 / 時間4: | up to 100 pps /
sample size dependent |
|
尺寸: | 910 mm (H) x 415 mm (W) x 700 mm (D) |
|
光源波長5: | Various (632.8 nm standard) |
|
測量光斑6: | Between 1 mm and 3 mm native
(can be as low as 50 µm) |
|
內(nèi)置測量調(diào)制頻率: | PEMLabsTM Photoelastic Modulator
50 kHz or 50/60 kHz |
|
解調(diào)分析技術(shù): | Hinds Instruments SignalocTM
Lock-in Amplifier or Wave Form
Capture Card |
|
測量單位: | nm (retardation), ° (angle) |
|
1 Typical performance at 5 nm retardation
2 Up to 0.8 nm, 1% thereafter
3 Up to 1.5 nm, 1% thereafter
4 Maximum data collection speed. Sample XY scan time dependent on stage movement parameters.
5 Custom wavelengths available
6Spot sizes of less that 1 mm native require optional high resolution detector module
選項:
* Additional Polarization Parameters
* 超高速掃描選項
* 光譜掃描測量和RGB測量
* 客戶定制內(nèi)置波長選項（紫外/紅外）
* 手動/自動傾斜位移平臺裝置
* 定制樣品平臺加持誰記
* 定制化顯示界面 (UI or DLL)
* 應(yīng)力計算評估軟件
