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復合納米壓印軟模板
納米壓印機的基本思想是通過模版，將圖形轉移到相應的襯底上，轉移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結構硬化從而保留下轉移的圖形。整個過程包括壓印和圖形轉移兩個過程。根據壓印方法的不同，NIL主要可分為熱塑（Hot embossing）、紫外固化UV和微接觸（Micro contact printing， uCP）三種光刻技術。
主要功能
技術能力
該設備的發(fā)明人2001年至 2003 年，在納米壓印技術發(fā)明人、 美國普林斯頓大學 StephenY.Chou 教授的納米結構實驗室作為研究助理進行了為期 3 年的研究工作，發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料，對納米壓印技術的發(fā)展做出了重要的貢獻。2004 年加入材料科學與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術與納米壓印技術開展研究工作，研發(fā)了數種新型納米壓印材料，發(fā)展了新型高分子壓印模板，提出了曲面納米壓印技術；利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設備的研制與應用”項目的支持，研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設備，現已成為產品，并被南京大學、北京航空航天大學、國防科技大學、黑龍江大學、中科院深圳研究院等多家高校和科研機構所采用，形成了具有自主知識產權的納米壓印核心技術，技術水準與當前國際該領域*水平同步。
應用
納米壓印技術是目前納米溝道加工的主要技術。傳統(tǒng)的光刻技術主要是利用電子和光子改變光刻膠的物理化學性質，進而得到相應的納米圖形。而納米壓印技術則可以在不使用電子和光子的前提下，直接利用物理學機理機械地在光刻膠上構造納米尺寸圖形。正是由于這種機械作用，使得納米壓印技術不再受到光子衍射和電子散射的限制，可大面積地制備納米級圖形。同時，由于這項技術所用的設備簡單，制備時間短，壓印模板可以重復使用，所以應用該技術制備納米圖形所需的成本也較低。目前典型的三類納米壓印技術分別是：熱壓印，紫外固化壓印，微接觸印刷。分別適用在其各自的領域：
熱壓印技術：光電、光學器件；微型機電系統(tǒng)領域。
紫外固化壓印技術：納米光電器件、納米電子器件的生產；NEMS和MEMS加工；半導體集成電路的制造。
微接觸印刷技術：生物芯片和微流體器件的生產；生物傳感器（抗體光柵）；微機械元件的生產。
加工工藝來分，主要包含五大部分：壓印，刻蝕，鍍膜，檢測&表征與其他。所涉及的儀器設備主要包括：納米壓印機，感應耦合等離子體刻蝕機，電子束蒸發(fā)鍍膜機，原子力顯微鏡&掃描電鏡，以及超聲波清洗機&真空干燥箱等。
Sandwiched Flexible Polymer-SFP® & Hybrid Mold®軟模板壓印技術
盡可能消除灰塵顆粒對于納米壓印結果產生的影響
在不規(guī)則表面或者曲面進行納米壓?。ㄉ蠄D為單模光纖進行的納米壓印）
Nickel Template金屬鎳模板熱壓技術
直接對于聚合物襯底（PMMA、PET等材料上）直接熱壓，免去了刻蝕環(huán)節(jié)。
鎳模板壽命長，適合高溫高壓連續(xù)壓印。
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