X射線光電子能譜儀ESCALAB Xi+是研發(fā)出的一款基于ESCALAB 250Xi產(chǎn)品后，具有可擴展功能、多種分析技術集成化的測試手段。該產(chǎn)品通過的靈活性、完備的專業(yè)配置選項、直觀的軟件操作以及硬件配置，帶給用戶的是的的實驗結(jié)果和生產(chǎn)力。強大的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)提供系統(tǒng)控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理與系統(tǒng)運行報告等一站式服務。
分析性能
●表面元素定性、定量分析
世界的能量分析器設計和雙晶微聚焦單色化X射線源結(jié)合，實現(xiàn)了的能量分辨率
●快速高分辨平行成像
化學成像: 空間分辨率優(yōu)于1um
回溯成譜: 回溯區(qū)域優(yōu)于6um
●無需背底修正探測器
電子倍增器和電阻陽極探測器的雙探測器設計，可實現(xiàn)高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成 像的需求。
空間連續(xù)的電阻陽極探測器創(chuàng)新技術，使得XPI成像分辨率達1um，同時所得數(shù)據(jù)無探測器背底特 征，無需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結(jié)果。
●微聚焦單色源
分析尺寸在20μm～900μm之間連續(xù)可調(diào)
的靈敏度和能量分辨率
提供不少于20個靶材工作點，確保儀器終身使用過程中陽極靶無需更換
●自動化高效離子剖析源
新型Ar離子團簇與傳統(tǒng)單粒子離子源相結(jié)合，用于各類材料的深度剖析研究
●高精確度角分辨XPS
軟件控制分析位置和角度，確保數(shù)據(jù)的精確性和重復性
全套的ARXPS數(shù)據(jù)處理工具，可對納米尺度的多層結(jié)構(gòu)器件進行層厚計算
●一鍵式荷電補償
配有雙束電荷中和系統(tǒng)，可以根據(jù)實際樣品的需要獨立控制開啟。
適用于所有不導電樣品及粗糙表面的精準荷電中和
●強大的Avantage分析軟件
全數(shù)字化儀器控制
系統(tǒng)軟件可視化操作
全套XPS標準數(shù)據(jù)圖庫以及化合物結(jié)構(gòu)鑒定數(shù)據(jù)庫
自定義數(shù)據(jù)采集到報告生成模式
