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高純氣體分析*氣相高純氣體分析氣相色譜儀

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 杭州瑞析科技有限公司
品牌
型號 高純氣體分析*氣相
所在地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時間 2015/11/18 16:00:00
訪問次數(shù) 1346

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

詳細(xì)信息在線詢價

技術(shù)參數(shù)

PDHID檢測器（Valco*）對6種氣體的檢測限（ppb）
H2:5 O2: 50 N2:10 CO:25 CH4:5 CO2:5

主要特點

Valco公司的PDHID-50ppb痕量檢測
Valco公司的自動閥系統(tǒng)
Valco公司的氣體純化系統(tǒng)
華愛公司*流的中心切割及反吹技術(shù)

儀器介紹

[下載樣本]

PDHID是利用氦中穩(wěn)定的，低功率脈沖放電作電離源，使被測組分電離產(chǎn)生信號。PDHID是非放射性檢測器，對所有物質(zhì)均有高靈敏度的正響應(yīng)。

1．脈沖放電間隔和功率    PDHID中放電電極距離為1.6mm，改變充電時間可改變經(jīng)過初級線圈的放電功率。充電時間越長、功率越大。一般脈沖間隔為200-300μs,充電時間在40-45μs，基流和響應(yīng)值達(dá)*。因放電時間僅為1μs，而脈沖周期達(dá)幾百微秒，絕大部分時間放電電極是空載。所以放電區(qū)不會過熱。

2．偏電壓    在放電區(qū)相鄰的電極上加一恒定的負(fù)偏電壓。響應(yīng)值隨偏電壓的增加而急劇增大，很快即達(dá)飽和。在飽和區(qū)響應(yīng)值基本不隨偏電壓而改變。PDHID在飽和區(qū)內(nèi)工作，噪聲較低。基流與偏電壓的關(guān)系同響應(yīng)值與偏電壓。

3．通過放電區(qū)的氦流速    氦通過放電區(qū)有兩個目的：a 保持放電區(qū)的潔凈，以便氦被激發(fā)；b 它作為尾吹氣加入，以減少被測組分在檢測器的滯留時間。只是它和傳統(tǒng)的尾吹氣加入方向相反。池體積為113ul，對峰寬為5s的色譜峰，要求氦流速為6.8-13.6ml/min，如果峰寬窄至1s，流速應(yīng)提高到34-68ml/min，以保持被測組分在檢測器的滯留時間短至該峰寬的10%-20%。

4．電離方式和性能特征    PDHID的電離方式尚不十分明朗，綜合文獻(xiàn)敘述，電離過程有三部分組成：a 氦中放電發(fā)射出13.5-17.7eV的連續(xù)輻射光進(jìn)行光電離；b 被高壓脈沖加速的電子直接電離組分AB，產(chǎn)生信號，或直接電離載氣和雜質(zhì)產(chǎn)生基流；c 亞穩(wěn)態(tài)氦與組分反應(yīng)電離產(chǎn)生信號，或與雜質(zhì)反應(yīng)電離產(chǎn)生基流。.

e + AB→AB+ + 2e

e + He→He＊＊→ He＊ + hν

He＊ + AB→AB+ + e + He