等離子體清洗機 Plasma表面活化改性蝕刻稱為等離子表面處理設備，或者稱為等離子表面活化設備，通過激勵電源產生等離子體，等離子作用于產品表面，清洗產品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。

概述（Summary）

等離子清洗機(Plasma cleaner)，也稱為等離子表面處理設備，或者稱為等離子表面活化設備，通過激勵電源產生等離子體，等離子作用于產品表面，清洗產品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能。等離子清洗是一種新型的、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方式。

等離子體清洗機 Plasma表面活化改性蝕刻適用于企業(yè)產品批量生產，其腔體容量大，可設計性更強，可滿足對大部分產品表面處理需求。優(yōu)點：機架緊湊，性能全面，處理效果均勻穩(wěn)定，而且配置靈活，性價比高。

二·應用（Application）

等離子清洗廣泛應用于膠粘、焊接、印刷、涂覆、鍍膜等等場合，通過等離子體作用于產品表面，去除產品表面的有機污染物，提高產品表面活性，以及激活表面性能，能明顯改善產品后續(xù)工藝的膠粘、焊接、印刷、涂覆、鍍膜的附著力和良品率。已經成為中產品表面性能處理的重要工具。

（1）LED（LED在焊線時表面附著力往往是很低的，如不對表面做處理會存在焊線不牢等現(xiàn)象，所以焊線前需做等離子處理，提高產品的附著力，避免焊線不牢、易掉等問題）

（2）觸摸屏（觸摸屏油墨面需要與其他部件進行貼合、觸摸面則需要進行，鍍膜面、油墨面處理，提高油墨面、鍍膜面貼合力，避免貼補不牢，鍍層易磨損易掉等問題）

（3）金屬（部分金屬制品表面需鍍金銀層，金屬表面未經過處理表面貼合力不夠，導致鍍層不牢、不均勻等現(xiàn)象，等離子處理可增加金屬表面附著力、提高表面均勻性，避免鍍層不均勻、易脫落等問題）

（4）攝像頭模組（攝像頭模組需要進行貼合、密封，等離子能對其表面進行有效的活化提高表面貼合力）

（5）FPC（FPC表面也會存在焊接不牢的現(xiàn)象，等離處理可提高其表面附著力，增加FPC本身的貼合力）

（6）醫(yī)用硅膠（用于醫(yī)用的硅膠需要具備適當?shù)母街?，既能很好的貼敷在皮膚表面又不會因為附著力太強而導致與皮膚貼敷太緊，所以需要處理控制性能比較強的表面處理設備，真空等離子具備*的可控制性，處理效果穩(wěn)定，極為環(huán)保的處理方式無疑是最佳的選擇）

（7）隱形眼鏡（隱形眼鏡表面需要做比較精密的鍍膜處理，如果表面處理不得當會導致用戶體驗不佳直接影響產品的品質，所以對表面處理及鍍膜工藝要求非?？量蹋?/span>

（8）尼龍材料（部分尼龍材料表面需要做貼合點膠工藝，但尼龍材料本身的附著力并不是很理想，所以在進行貼合或點膠前需先對材料表面做活化處理才能達到貼合/點膠的工藝要求）

三·等離子清洗原理（Principle）

1、等離子清洗的原理：對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，達到對材料表面清洗、蝕刻、活化等效果。等離子體清洗機 Plasma表面活化改性蝕刻

（1）對材料表面的刻蝕作用--物理作用：

等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。

（2）激活鍵能--交聯(lián)作用：

等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網狀的交聯(lián)結構，大大地激活了表面活性。

（3）形成新的官能團--化學作用：

如果放電氣體中引入反應性氣體，那么在活化的材料表面會發(fā)生復雜的化學反應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，能明顯提高材料表面活性。

2、真空等離子設備原理：等離子清洗機的結構主要分為四大部分組成：控制系統(tǒng)、激勵電源系統(tǒng)、真空腔體、工藝氣體系統(tǒng)、以及真空泵系統(tǒng)。

（1）控制系統(tǒng)：

控制系統(tǒng)的功能在于控制整個設備的運行，包括人機界面（觸摸屏）、PLC、電氣電路。采用全自動控制系統(tǒng)的真空等離子清洗，可實現(xiàn)多種模式多種程序對清洗設備進行控制，滿足不同客戶的需求。

（2）激勵電源系統(tǒng)：

激勵電源主要有三類：40KHz的中頻激勵電源，13.56MHz的射頻激勵電源，2.45GHz的微波激勵電源。目前業(yè)界主要采用的是射頻激勵電源和中頻激勵電源。各自應用場合不同。

（3）真空腔體：

真空腔體主要是分為三種材質的：1）鋁合金腔體，2）不銹鋼真空腔體，3）石英腔體。根據(jù)用戶的不同需求，可實現(xiàn)不同的放電模式和適用不同的樣品尺寸和產能。

（4）工藝氣體系統(tǒng)：

工藝氣體包括流量計、氣壓閥等，用戶可靈活選擇多路的工藝氣體方案，氬氣、氧氣、氫氣、氮氣、四氟化碳等，可滿足不同工藝方案要求。清洗各種產品表面。

（5）真空泵：

真空泵分為油泵、干泵、羅茨泵，油泵主要采用雙級旋片泵，根據(jù)用戶所采用的腔體體積、工作效率、環(huán)境要求來制定真空泵的方案。