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全自動離子刻蝕機 MEL 3100伯東公司供應(yīng)

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全自動離子刻蝕機 MEL 3100

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全自動離子刻蝕機 MEL 3100 特性
全自動化系統(tǒng)
清潔: 鈦用于經(jīng)常暴露于離子束的零件, 以產(chǎn)生低粒子. 晶圓輸送盒采用高效空氣過濾器.
占地面積小, 方便維護
10.4英寸觸摸屏
配置美國 KRI 考夫曼離子源和德國 Pfeiffer 分子泵.
全自動離子刻蝕機 MEL 3100

全自動離子刻蝕機 MEL 3100 技術(shù)規(guī)格.

型號

MEL 3100

樣品數(shù)量尺寸

3”φ-6”φ,1片

晶圓輸送盒

1個, 25 片晶圓

極限真空

8x10-5 Pa

均勻性

≤±5%

蝕刻速率

>10(nm/min) @SiO2

Hakuto 日本原裝設(shè)計制造離子刻蝕機 IBE, 提供微米級刻蝕, 滿足所有材料的刻蝕, 即使對磁性材料,黃金 Au, 鉑 Pt, 合金等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料, 這些難刻蝕的材料也能提供蝕刻. 可用于反應(yīng)離子刻蝕 RIE 不能很好刻蝕的材料. 自 1970年至今, Hakuto 伯東已累計交付約 500套離子蝕刻機. 蝕刻機可配置德國 Pfeiffer 渦輪分子泵和美國 KRI 考夫曼離子源!
伯東公司超過 50年的刻蝕 IBE 市場經(jīng)驗, 擁有龐大的安裝基礎(chǔ)和經(jīng)過市場驗證的刻蝕技術(shù)!

若您需要進一步的了解離子蝕刻機詳細信息, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生                                 中國臺灣伯東: 王小姐



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