隨著電子和納米科學時代的興起，電子元件的小型化已成為其幾乎呈指數(shù)級性能的重要因素。將技術(shù)層和涂層減薄到納米級，可以在各種領(lǐng)域取得進步。復(fù)雜的制造流程推動控制變得越來越準確。

光聲無損膜厚儀為這些演變相關(guān)的許多問題提供了解決方案。缺陷檢測現(xiàn)在在許多行業(yè)中非常必要，以避免在生產(chǎn)過程中遇到問題并提高質(zhì)量水平。

光聲無損膜厚儀

隨著電子和納米科學時代的興起，電子元件的小型化已成為其幾乎呈指數(shù)級性能的重要因素。將技術(shù)層和涂層減薄到納米級，可以在各種領(lǐng)域取得進步。復(fù)雜的制造流程推動控制變得越來越準確。

光聲無損膜厚儀為這些演變相關(guān)的許多問題提供了解決方案。缺陷檢測現(xiàn)在在許多行業(yè)中非常必要，以避免在生產(chǎn)過程中遇到問題并提高質(zhì)量水平。

我們使用的光聲技術(shù)設(shè)計了光聲無損測量系統(tǒng)。 技術(shù)源自法國CNRS 和波爾多大學的技術(shù)轉(zhuǎn)讓，它依靠激光、材料和聲波之間的相互作用深入物質(zhì)的核心。

我們的非破壞性和非接觸式技術(shù)將光轉(zhuǎn)換為聲頻超過100GHz 的聲波。 目的在于表征涂層，例如不同類型材料的厚度和附著力。特別適用于測量從幾納米到幾微米的薄層，無論是不透明的（金屬、金屬氧化物和陶瓷），還是半透明和透明的。 這種光學技術(shù)不受樣品形狀的影響。

產(chǎn)品特點

• 非破壞性和非接觸式技術(shù)
• 薄膜的表征：厚度、附著力、熱性能
• 快速且可重復(fù)的測量
• 超精密測量
• 許多材料可用
• 能檢測的膜厚度從 2納米～20微米
• 掃描方式：單點、XY掃描、表面聲波
• 測樣樣品種類： 不透明、半透明、透明均可測試。
• 平坦和彎曲的樣品均可

系統(tǒng)構(gòu)成：

儀器使用兩個同步的超快激光器。會產(chǎn)生大約100飛秒的不同波長的激光脈沖。使用這些脈沖進行非破壞性和非接觸式測量。這些都集中在所研究的樣品表面。

能使用的材料

廣泛的材料及其在許多應(yīng)用中的使用使這一材料方面變得非常必要。自產(chǎn)品問世以來，我們的技術(shù)已證明其有能力測量許多金屬材料。也適用于陶瓷和金屬氧化物，并且不受外形因素的影響。

無損檢測 (NDT) 具體應(yīng)用案例半導體行業(yè)

半導體行業(yè)為我們周圍遇到的大多數(shù)電子設(shè)備提供了基本組件。它的制造需要在硅晶片上進行多次薄膜沉積。

問題？

在任何工藝過程中，不透明薄膜的沉積，無論是單層還是多層，都需要質(zhì)量控制。無論是檢測還是計量，厚度測量和界面表征都是確保其質(zhì)量的關(guān)鍵問題。

我們的解決方案？
- 高速控制。
- 非破壞性和非接觸式測量。
- 單層和多層厚度測量。

顯示器行業(yè)

今天，不同的技術(shù)競爭主導顯示器的生產(chǎn)，而顯示器在我們的日常使用中無處不在。事實上，由于未來 UHD-8K 標準以及新興柔性顯示器的制造工藝，這個不斷擴大的行業(yè)存在技術(shù)限制。

問題？

一個像素仍然是一堆薄層有機墨水、銀、ITO……在這方面，控制薄層厚度的問題仍然存在。這些問題可能會導致最終產(chǎn)品出現(xiàn)質(zhì)量缺陷。

我們的解決方案？
- 對此類層的*檢查。
- 提取厚度的可能性。
- 非破壞性和非接觸式厚度測量。

薄層沉積

無論是在航空工業(yè)還是科研制造領(lǐng)域，技術(shù)涂層都可用于增強高附加值部件中的某些功能。這些涂層的厚度隨后成為確保目標性能的關(guān)鍵因素。

問題？

無論是法律限制還是技術(shù)限制，破壞性測試的采樣方法通常提供不完整的答案。此外，由于形狀因素、曲率等原因，很難控制3D作品。

我們的解決方案？
- 非破壞性和非接觸式測試
- 快速測試厚度數(shù)據(jù)
- 現(xiàn)在可以進行在線生產(chǎn)控制