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CVD LFT1200C 400D80II SL 低真空CVD石墨烯生長系統(tǒng)

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低真空CVD石墨烯生長系統(tǒng)設(shè)備描述
CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫;PLC控制5路質(zhì)子流量器,能夠精確控制系統(tǒng)的供氣;真空泵可實(shí)現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長、沉積,是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備。

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

低真空CVD石墨烯生長系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

 

 

 

 

 

 

 

 

低真空CVD石墨烯生長系統(tǒng) 

雙溫區(qū)滑軌爐LFT1200C-II 200D50

爐體結(jié)構(gòu)

該設(shè)備采用雙層殼體并帶有風(fēng)冷系統(tǒng),使其爐體表面溫度都小于55℃

·   爐底安裝一對滑軌,可手動(dòng)滑動(dòng),以便滿足特殊工藝的快速升降溫的要求。 

爐管尺寸

Φ50/60/80/100×1400mm(可提供特殊定制。)

功率

5kW

輸入電壓

220VAC 單相 50/60Hz

加熱元件

Cr27Al7MO2(摻鉬鐵鉻鋁合金)

溫度

溫度:1200℃ 

額定溫度:1100℃

升溫速率

 ≦10℃/min(推薦)

加熱區(qū)長度度

· 兩個(gè)加熱區(qū)的長度都是200mm

· 分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制

恒溫區(qū)長

· 100+100mm(±1℃)

· 可獲得較長恒溫區(qū)間

控溫精度

·  ±1℃

快速連接法蘭

· Φ50快結(jié)式不銹鋼真空法蘭

· 打開法蘭直接卸下卡箍即可,取放樣品方便
另配備有可調(diào)節(jié)高度的法蘭支架

 

 

五路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)

 

電壓

220VAC  單相  50/60Hz

針閥材質(zhì)

316不銹鋼

量程

50sccm、100sccm、500sccm、500sccm、500sccm(可根據(jù)工藝要求提供多種量程選擇)

工作溫度

5~45℃

外型尺寸

600(L) x 600(W) x 700(H) mm

電壓

AC220V/50Hz單相

功率

23W

 

 

真空系統(tǒng)

殼體尺寸

· 600 (L) x 600 (W) x 700(H)mm

最大承載量

· 1000 Lbs 

抽氣速率

· 10m³/h

· 極限真空度:10-1Pa

· 雙層立式油污過濾器(PE材質(zhì))與真空泵連接

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期,相關(guān)耗材除外,如爐管,密封圈加熱元件等易耗件

 

 

 

 

使用注意事項(xiàng)

· 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa

· 當(dāng)爐體溫度高于1000時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài)進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊

· 石英管的長時(shí)間使用溫度<1100

· 對于樣品加熱的實(shí)驗(yàn),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

 

合肥康帕因設(shè)備技術(shù)有限公司

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