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PED脈沖電子束鍍膜

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美國NEOCERA公司 應用Neocera公司的使命是為研究新型*薄膜材料和器件的科學家和工程師提供服務

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美國NEOCERA公司

應用

Neocera公司的使命是為研究新型*薄膜材料和器件的科學家和工程師提供服務。我們通過以下手段來實現(xiàn)此目標:

l 發(fā)展在材料科學和器件工程方面的基礎競爭力

l 在薄膜制造方面,的脈沖電子束鍍膜(PED)和脈沖激光鍍膜(PLD)設備

l 提供的技術支持

l 參與共同的研究與開發(fā)

Neocera公司是一家PED 和PLD設備的增值供應商。在PED 和PLD科學和技術的前沿方面,我們的解決方案;我們的設備和實際經驗將幫助解決你們的問題。

另外,Neocera公司參與政府部門和工業(yè)客戶的前沿的研究與開發(fā);作為材料科學家,我們了解你們的需要。

技術指標

一、 PED-120系統(tǒng)的技術指標

l PEBS-20脈沖電子源和電源

l 真空腔:直徑12"

Ø 額定基壓:<1x10-6 Torr

l 基片加熱器,直徑2",帶控溫器

Ø 氧氣可達大氣壓力

Ø 溫度:950 °C

Ø 溫度均勻性:±5 °C

Ø 溫度穩(wěn)定性:±1 °C

Ø 基片加熱器檔板

l 靶盒,手動控制

Ø 可放置6個1"的靶或3個2"的靶

Ø 靶與法蘭的距離:4"

l 氣路

Ø 質量流量計控制進入真空腔的流量,量程100sccm

Ø 控制采用單通道設置/數(shù)值顯示

l 真空泵系統(tǒng)

Ø 260 l/s 帶冷阱的渦輪分子泵,高真空泵

Ø 4 m3/hr無油機械泵

Ø 8"閘板閥,手動控制

Ø 排氣/出氣閥,用于氧氣的安全操作

l 真空計,顯示讀數(shù)

Ø 冷陰極型

Ø 對流型

l 系統(tǒng)框架

Ø 占地面積:22” 34”D

Ø 空間: 30” 34”D

Ø 總高度: 54"-58"

Ø 標準19"電子元件安裝架

Ø 腳輪和水平調節(jié)器

l 電源

Ø 110-240 VAC/50 Hz, 20 A,單相

二、PEBS-20脈沖電子源系統(tǒng)的技術指標

組成:

l PEBS-20脈沖電子源

l 電源

l 電子控制系統(tǒng)

l 預裝軟件的控制計算機

技術指標:

電壓:115-230 VAC, 50/60 Hz, 單相

氧氣壓力:5-20 mTorr

電子能量:8-20 kV

單次脈沖能量:0.1 – 0.8 J

脈沖能量偏差(Max):±10%

能量轉換效率:25-30%

脈沖持續(xù)時間:~100 ns

脈沖重復速率(Max):15 Hz

電子束斑面積(Min):6 x 10-2 cm2

電子束斑面積偏差(Max):±20%

脈沖能量密度(Max):1.3 x 108 W/ cm2

Z軸移動距離:50 mm

XY軸移動距離:±20 mm

工作壽命:107 次脈沖

PEBS源的工作溫度(Max):85 °C

特點

脈沖電子束沉積(PED)的特點

與CW技術相比,例如傳統(tǒng)的電子束蒸發(fā),脈沖系統(tǒng)的主要特點是可以在靶材表面上

產生達108W/cm2的高能量密度。因此,靶材的熱動力學特性比如熔點和比熱等

在蒸發(fā)過程中就變得不重要了。這一點對復雜的、多組分材料特別具有優(yōu)勢。與脈

沖激光沉積(PLD)相比,脈沖電子束沉積(PED)技術提供了的平臺,在

一系列具有重要技術價值的基片上沉積復雜材料的薄膜,其*的優(yōu)點在于擴展了

材料的范圍和應用。這種方法在大批量生產中可以大規(guī)模應用且成本低廉。


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