P-1等離子表面活化 等離子表面活化處理系統(tǒng)
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- 公司名稱 極科有限公司
- 品牌
- 型號 P-1等離子表面活化
- 所在地 上海市
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2015/12/30 14:00:00
- 訪問次數(shù) 1138
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產(chǎn)品介紹:P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)
P-I等離子表面活化處理系統(tǒng)是一款業(yè)內(nèi)使用zui多的等離子表面活化處理系統(tǒng),集等離子清洗、等離子刻蝕(Plasma Etching)、反應離子刻蝕(RIE)為一身的多功能等離子表面活化處理系統(tǒng)。 目前在世界各地的許多不同領域均有該款等離子表面活化處理系統(tǒng)在運行之中。 例如,P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)被發(fā)現(xiàn)被廣泛用于醫(yī)療、半導體、電子,PCB(印刷電路板)、工業(yè)
產(chǎn)品介紹:P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)
P-I等離子表面活化處理系統(tǒng)是一款業(yè)內(nèi)使用zui多的等離子表面活化處理系統(tǒng),集等離子清洗、等離子刻蝕(Plasma Etching)、反應離子刻蝕(RIE)為一身的多功能等離子表面活化處理系統(tǒng)。 目前在世界各地的許多不同領域均有該款等離子表面活化處理系統(tǒng)在運行之中。 例如,P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)被發(fā)現(xiàn)被廣泛用于醫(yī)療、半導體、電子,PCB(印刷電路板)、工業(yè)制造和太陽能電池領域。P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)是一款真正杰出的等離子表面處理系統(tǒng)設備。
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)可在兩種*的等離子處理模式下運行:
1)普通等離子處理模式:等離子清洗機、等離子刻蝕機模式;
2)RIE反應離子刻蝕處理模式: -反應離子刻蝕(RIE)的等離子體處理模式;
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)縱覽
對于批量等離子表面處理的好處是更好的附著力或打標,更清潔的部件;而使用更少的勞動力和化學品費用減少,無需消除不受歡迎的化學廢物而花費昂貴的處理的清理和涂刷費用。 較大的鋁質(zhì)真空艙可容納一個寬大需要活性等離子表面清洗的工件;等離子表面活化處理系統(tǒng)標準配置包括5套等離子處理工件架,可提供13600平方厘米(cm2)的可用等離子處理加工區(qū)。
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)標準配備觸摸屏控制,這使得控制處理非常容易,因為程序或參數(shù)被保存,以備將來使用。可以很容易地保持生產(chǎn)和運行在一個標準的、用戶友好的自定義軟件和程序之中,P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)操作非常容易。更加客戶配置定制電極,以滿足不同產(chǎn)品工件的大小和間距的要求,而不收取額外費用。
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)特點
直觀且簡單易用的觸摸屏界面控制每一個等離子清洗過程的環(huán)節(jié),從而確??煽啃院涂芍貜托?。
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)控制臺結(jié)構(gòu)緊湊,從而占用很小的空間。真空泵浦系統(tǒng)提供特別準備的真空泵,可與氧氣服務。 真空泵系統(tǒng)配以兩點氮氣(N2)吹掃系統(tǒng),以減輕腐蝕性副產(chǎn)品在真空泵浦系統(tǒng)中的產(chǎn)生,從而延長了真空泵浦系統(tǒng)的使用壽命和降低使用鹵化氣體系統(tǒng)的維護周期。
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)真空艙及電極可按客戶配置定制,以滿足客戶對等離子表面活化處理系統(tǒng)的要求;,如 RIE(反應離子刻蝕)、半導體引線框架盒、水平和垂直旋轉(zhuǎn)電極。
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)規(guī)格
標準P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)配置
鋁合金真空艙:63.50 cm 寬 x 63.50 cm深 x 53.00高
電極設置:五套 51.00cm X 53.00cm水平電極,每套電極板間隔7.6cm
射頻電源:600瓦@13.56MHz射頻電源;自動匹配器網(wǎng)絡
工藝氣體控制:單套500 SCCM質(zhì)量流量控制器 (MFC)
真空監(jiān)測系統(tǒng):皮拉尼真空計0-1托
控制器系統(tǒng):微處理器系統(tǒng),配備觸摸屏界面
工藝程序存儲功能:可存儲多達20個雙步驟程序
真空泵浦系統(tǒng):29 CFM氧氣服務真空泵系統(tǒng),配備油霧分離器
可選配P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)配置
靜電屏蔽;
工藝溫度控制;
1250瓦@13.56MHz 射頻電源;
59 CFM氧氣服務真空泵系統(tǒng);
355 CFM真空增壓機;
RIE(反應離子刻蝕)電極配置;
低供應壓力氣體報警器;
微軟計算機控制系統(tǒng),配備觸摸屏接口;
直觀的等離子體刻蝕操作軟件,具備數(shù)據(jù)報告、事件監(jiān)控、打印功能;
信號燈塔、活躍真空控制器、 4套質(zhì)量流量控制器(MFC);
自動兩點氮氣(N2)真空泵吹掃、真空艙氮氣(N2)吹掃速度控制;
真空泵排氣油霧凝聚式過濾器
其它按客戶需求定制的真空艙及電極設置;
其它可選配等離子表面活化處理系統(tǒng)配置
閉環(huán)式射頻電源冷卻器
填充床煙氣洗滌器
壓縮空氣干燥機(吹掃氣體發(fā)生器)
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)規(guī)格
等離子表面活化處理系統(tǒng)重量:約 550公斤
真空泵浦重量:約70公斤
等離子表面活化處理系統(tǒng)占地尺寸:180 cm X 92cm X 82cm
真空泵浦占地尺寸:41cm X 77cm X 44cm
P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)設備外部安裝要求
電源:交流,3相30安培,
壓縮空氣:0.55~0.70 MPa,14升/分鐘
系統(tǒng)環(huán)境溫度:29攝氏度
工藝氣體壓力:0.10 MPa
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