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YPI-MX-θDC 日本ygkcop雙頭SiC表面粒子掃描儀

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日本ygkcop雙頭SiC表面粒子掃描儀
YPI-MX-ΘDC SiC / GaN相關(guān),Si /透明/ LT晶片表面異物檢查設(shè)備



SiC / GaN相關(guān)晶圓表面檢測設(shè)備。
雙頭SiC表面粒子掃描儀

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日本ygkcop雙頭SiC表面粒子掃描儀

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YPI-MX-ΘDC SiC / GaN相關(guān),Si /透明/ LT晶片表面異物檢查設(shè)備



 
SiC / GaN相關(guān)晶圓表面檢測設(shè)備。
雙頭SiC表面粒子掃描儀
新開發(fā)的SiC表面顆粒掃描儀可防止未發(fā)現(xiàn)的SiC潛在劃痕。
采取措施,不漏掉傳統(tǒng)表面顆粒檢查設(shè)備無法檢測到的SiC表面潛伏期。
通過將雙傳感器安裝在可以檢查透明基板的YPI-MX上,可以進行測量而不會發(fā)現(xiàn)微小的劃痕缺陷。
通過在兩個正交軸上布置355 nm(UV)激光器和光接收傳感器,可以消除微小劃痕缺陷的方向依賴性,
并在忽略SiC襯底的情況下檢測劃痕缺陷和潛在劃痕。
在5分鐘內(nèi)測量4英寸SiC晶片,包括等待時間檢測測量。
 
    
                       設(shè)備中雙傳感器測量結(jié)果的圖像
 

 

不僅可以測量SiC,還可以測量透明玻璃晶片,硅晶片和LT晶片。
小檢測粒徑為0.1μm。

LT晶片測量結(jié)果示例

如果是4英寸LT晶片,則可以在大約2分鐘內(nèi)進行測量。


 

關(guān)于大功率激光控制


配備有YPI-MX-DC的大功率激光輸出通過我們的控制系統(tǒng)(自動功率控制)控制
為恒定,從而可以實現(xiàn)更精確的異物檢測。
 

設(shè)備規(guī)格

掃描方式
激光側(cè)散射法,雙頭傳感器
工作安裝
手動/自動輸送機
能量消耗
AC100V / 200V 30A
小檢測粒徑
0.1微米
重現(xiàn)性
σ/ X≦10%
測量時間
2分鐘內(nèi)放入4英寸晶圓
待檢查的基材
SiC /各種透明玻璃基板/ Si晶片,LT晶片,具有
各種膜的晶片
設(shè)備外形尺寸
W900mm x D1,000mm x H1,757mm(手動)
W1,530mm x D1,200mm x H1,715mm(自動傳送帶)
體重
約500公斤(手動)/約1000公斤(自動傳送帶)

 

深圳市秋山貿(mào)易有限公司

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