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離子濺射儀 MC1000

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離子濺射儀 MC1000

采用磁控型電極，大限度地減輕對樣品的損壞。

  • 特點

  • 規(guī)格

特點

  • 采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件
  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)
  • 記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格

項目說明
放電類型磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓大 0.4 kV DC(直流可變)
電流大 40 mA DC
噴鍍速率 *1(大)
[條件]
壓力：7 Pa
放電電流：40 mA
標(biāo)靶與樣品表面之間的距離：20 mm		Pt 靶(選配件)15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件)20 nm/min
Au 靶(選配件)35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件)25 nm/min
樣品尺寸大直徑φ60 mm
大高度20 mm
機(jī)械泵135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸寬度450 mm
長度391 mm
高度390 mm
重量主機(jī)：約 25 kg
機(jī)械泵：約 28 kg
*1
： 噴鍍速率僅供參考
*2
： 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請從選項中選擇(鉑，鉑-鈀，金，金-鈀)。

關(guān)聯(lián)產(chǎn)品分類

  • 場發(fā)射掃描電子顯微鏡 (FE-SEM)
  • 掃描電子顯微鏡 (SEM)
  • 透射電子顯微鏡 (TEM/STEM)


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