GDA 750 HP輝光光譜儀對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。

GDA 750 HP輝光光譜儀在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析的手段。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。 
對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。 

輝光光譜儀主要特點(diǎn)：
1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價
3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項，如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式

GDA750輝光光譜儀可以配備60個以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂（鍍）層的深度可測量至200µm。表面分析和獲得的分辨率達(dá)1個原子層。分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用；化學(xué)成分可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定。 
通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過程*化和zui大程度地避免廢品浪費(fèi)。GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。 
采用可選的射頻輝光放電光源，GDA750可用于分析非導(dǎo)電性材料，如陶瓷，玻璃和油漆涂層。