膜厚儀-Otsuka是一套快速、準(zhǔn)確的顯微分光膜厚測(cè)量?jī)x，通過測(cè)量顯微區(qū)域的光譜反射率，能夠非常精確地分析薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)，非破壞性和非接觸式厚度測(cè)量可以在多層膜和各種涂層上進(jìn)行，包括薄膜、晶圓片和光學(xué)材料等，測(cè)量速度可達(dá)1秒/點(diǎn)。

顯微分光膜厚儀OPTMseries-光學(xué)膜厚儀-光學(xué)膜厚測(cè)試儀 產(chǎn)品描述：

顯微分光膜厚儀OPTMseries-光學(xué)膜厚儀-光學(xué)膜厚測(cè)試儀 是一套快速、準(zhǔn)確的顯微分光膜厚測(cè)量?jī)x，通過測(cè)量顯微區(qū)域的光譜反射率，能夠非常精確地分析薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)，可以在多層薄膜和薄膜，晶片和光學(xué)材料等各種涂層上進(jìn)行非破壞性和非接觸式厚度測(cè)量，測(cè)量速度可達(dá)1秒/點(diǎn)。可以測(cè)量的技術(shù)參數(shù)包括：反射率測(cè)量厚度分析，光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率k：消光系數(shù)）。

工作原理：

Otsuka使用光干涉法和高性能光譜儀提供高精度的非接觸式和非破壞性厚度測(cè)量。光干涉法是使用分光光度計(jì)光學(xué)器件反射率的光學(xué)厚度分析技術(shù)。 以金屬基材上的涂膜為例，從上方照射的光束在涂層表面（R1）上反射。此外，透射光束在基材或邊界（R2）上反射。根據(jù)由光程差和相移引起的光干涉行為，可以使用反射光譜和折射率來計(jì)算膜厚度。分析算法為峰谷法，快速傅里葉變換（FFT）方法，非線性小二乘法和優(yōu)化方法。

OPTM系列膜厚測(cè)量所需的所有功能都集成在測(cè)量頭中，可使用顯微鏡進(jìn)行高精度的反射率測(cè)量（多層膜的厚度和光學(xué)常數(shù)）。這款光學(xué)系統(tǒng)，可使用顯微鏡在寬波長(zhǎng)范圍（紫外至近紅外）進(jìn)行測(cè)量每點(diǎn)少于1秒的高速測(cè)量并且配有帶區(qū)域傳感器的安全裝置。簡(jiǎn)易分析向?qū)?，任何人，甚至未?jīng)培訓(xùn)的操作人員，都可以輕松進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析。軟件程序包括用于定制測(cè)量序列的宏功能，可以進(jìn)行各種自定義。

技術(shù)參數(shù)：

測(cè)量參數(shù)

• 光譜范圍：230~800nm/360~1100nm/900~1600nm
• 膜厚范圍：1nm~35μm/7nm~49μm/16nm~92μm
• 樣品尺寸：Max. 200 x 200 x 17 mm
• 點(diǎn)徑：φ5μm（反射40倍鏡頭），改造后可達(dá)3μm
• 測(cè)量時(shí)間：1秒/點(diǎn)
• 尺寸：本體（W555xD537xH559mm），控制單元（W500xD180xH288mm）
• 功耗：750VA
• 可選電壓：AC 90 -110 V / 200-240 V

自動(dòng)XY平臺(tái)類型：

• 尺寸(WDH)：556×566×618mm
• 重量：66kg
• 大功耗：500VA

固定框架類型：

• 尺寸(WDH)：368×468×491mm
• 重量：38kg
• 大功耗：400VA

內(nèi)置測(cè)量頭類型：

• 尺寸(WDH)：210×441×474mm/90×250×190mm
• 重量：23/4 kg
• 大功耗：400VA

升級(jí)選項(xiàng)：

• 光譜儀規(guī)格可選（OPTM-A1/OPTM-A2/OPTM-A3）
• 根據(jù)具體測(cè)試需求，接受定制

測(cè)量案例：