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DU920 高性能光譜CCD

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 先鋒科技（香港）股份有限公司
品牌
型號 DU920
所在地
廠商性質(zhì) 其他
更新時間 2021/1/11 15:01:26
訪問次數(shù) 198

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

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Newton 920系列科學(xué)級光譜CCD采用*的CCD平臺，光譜速度可達1600幅譜每秒。采用1024*256規(guī)格的CCD芯片，包含背感光（BV），紫外增強，前感光，開放電極（OE）深耗盡（Deep Depleton）等不同的選項，來滿足不同的實驗需求。采用的真空密封技術(shù)，保證了制冷溫度及耐久性。
主要特點：

采用26um 1024*256芯片
3MHz讀出速度
峰值量子效率95%
TE制冷，*低－100°C
UltraVac™真空密封技術(shù)，保證5年真空質(zhì)保
單光窗設(shè)計，將光損失降至*低
Fringe suppression技術(shù)（邊緣抑制），消除背感光CCD的etalon(干涉)效應(yīng)
Dual AR 雙鍍膜選項，同時提升紫外及近紅外波段量子效率

?主要技術(shù)參數(shù)：

型號	DU920P	DU920PBx-DD
芯片類型	BV:背感光，可見波段優(yōu)化 BU：背感光，紫外增強350nm優(yōu)化 BU2:背感光，紫外增強250nm優(yōu)化 BVF:背感光，可見光波段優(yōu)化以及消除近紅外etalon鍍膜 OE:開放電極	BR-DD:背感光深耗盡CCD。帶有消除etalon鍍膜 BEX2-DD:背感光深耗盡CCD。帶有消除etalon鍍膜以及波段擴展雙層抗反射膜
有效像素	1024x255	1024x256
像素尺寸(um)	26x 26
探測面尺寸（mm）	26.6x6.7 * fill factor
*低制冷溫度
風(fēng)扇散熱	-80ºC
16度循環(huán)水散熱	-95ºC
10度循環(huán)水散熱	-100ºC
*大光譜速度（每秒）	273(Full Vertical Binning) 1612(Crop Mode 20 rows) 144(OE,Full Vertical Binning) 1149(OE,Crop Mode 20 rows)	272(Full Vertical Binning) 1587(Crop Mode 20 rows)
光窗	單石英窗口，無鍍膜。防反射膜或MgF₂可選	BR-DD單石英窗口, 防反射鍍膜（900nm優(yōu)化） BEX2-DD：單石英窗口，無鍍膜
芯片級別	1級芯片