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S100 劃痕測(cè)試儀

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納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結(jié)合強(qiáng)度、涂層失效形式，薄膜的抗劃痕強(qiáng)度與基底的變形尺度等.

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美國(guó)NANOVEA納米劃痕測(cè)試儀
飾 美國(guó)NANOVEA公司是一家*的劃痕測(cè)試儀的革新者，生產(chǎn)的劃痕測(cè)試儀是目前上用在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)備之一，該公司在光學(xué)設(shè)計(jì)、精密機(jī)械和科學(xué)軟件算法方面，擁有*不斷發(fā)展的技術(shù)，由于這些專門技術(shù)的應(yīng)用，NANOVEA為生產(chǎn)和質(zhì)量控制的研究和發(fā)展提供精密準(zhǔn)確的*解決方案。
納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結(jié)合強(qiáng)度、涂層失效形式，薄膜的抗劃痕強(qiáng)度與基底的變形尺度等，主要應(yīng)用在：
  1. 半導(dǎo)體技術(shù)（鈍化層、鍍金屬、Bond Pads）；
  2. 存儲(chǔ)材料（磁盤的保護(hù)層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護(hù)層）；
  3. 光學(xué)組件（*頭、光纖、光學(xué)刮擦保護(hù)層）；
  4. 金屬蒸鍍層；
  5. 防磨損涂層（TiN, TiC, DLC, 切割工具）；
  6. 藥理學(xué)（藥片、植入材料、生物組織）；
  7. 工程學(xué)（油漆涂料、橡膠、觸摸屏、MEMS）；
主要特點(diǎn)有：
1. *符合ASTM D7187，D7027，D1624，C171，ISO 20502，ISO 1518
2.       光學(xué)顯微鏡自動(dòng)觀察
3.       壓電陶瓷反饋控制
4.       加載載荷與劃痕深度的實(shí)時(shí)測(cè)量
5.       實(shí)時(shí)三維表面輪廓測(cè)量
可選件有：
  1. 多種劃痕針頭
  2. 微米、顯微模塊
  3. 硬度測(cè)試模塊
  4. 摩擦磨損測(cè)試模塊
  5. 聲發(fā)射模塊
  6. AFM模塊
  7. 三維顯微模塊


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