公司介紹：
德國Incoatec公司在基于薄膜技術(shù)的X射線光學(xué)器件方面擁有20年以上的經(jīng)驗。Incoatec公司的光學(xué)器件被用于*的X射線衍射測量、光譜測定和同步加速器射束線上。主打產(chǎn)品包括用于各種領(lǐng)域和針對微焦點光源方案的多層X射線光學(xué)器件。用新的光學(xué)器件和X射線源來升級X射線分析設(shè)備。計算機化的光學(xué)器件模擬、各類襯底的生產(chǎn)和薄膜表征使INCOATEC的服務(wù)更為完善，為重工業(yè)，化學(xué)，制藥，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，生命科學(xué)和納米技術(shù)提供解決方案，是可靠，高效和用戶友好型產(chǎn)品，具備德國制造的精髓。
產(chǎn)品介紹：
Incoatec可為光束制導(dǎo)、塑形以及其他光學(xué)實驗使用的同步光學(xué)組件提供薄膜鍍層。Incoatec*的沉積技術(shù)可以進行各種材料的單層和多層鍍膜，長度高達150cm。與合作伙伴一起，我們可以提供很多完整的光學(xué)解決方案。
產(chǎn)品特點：
低斜率誤差
低粗糙度
高反射率
高穩(wěn)定性和高損傷閾值
主要應(yīng)用：
Fig.7 The deviation of the desired shape is less than ± 0.2 %.
沉積和表征：
層沉積
我們對多種材料組合的單層和多層鍍膜有豐富的經(jīng)驗，我們既可以沉積單層膜條紋，亦可得到在橫向與深度上有不同厚度梯度的長可達150cm的多層鍍膜。該涂層的特點是均勻性好，粘附力強，高密度，低粗糙度和高反射率。
Fig.1 Linear sputter coating unit with 4 different target materials
XRR 表征
多層膜參數(shù)，如層厚、密度均勻性、粗糙度、反射率和反差系數(shù)比用Cu-Kα(8048eV)在膜的不同位置用XRR進行表征。
Fig.2 The thickness uniformity over 150 cm is better than1%
多層膜的XRR測量
多層鍍膜由 X 射線反射法（XRR）檢測。通過對一階Bragg 峰的定量分析，可測定大反射率、積分強度與能量分辨率。
通過 XRR 測量，可對鍍層的界面粗糙度與材料密度進行推演以獲得盡可能明晰和平滑的界面，同時也是為了在單層之間獲得的密度差。布拉格峰角度可以用來計算雙層厚度周期，這就是所謂的d值。
Fig.3 Laterally Graded Multilayer Optics: The film thickness variation along the substrate and the ideal and acceptable thickness gradients are shown.
應(yīng)用介紹：
全反射鏡片
全反射鏡在同步輻射射束線站上被用于射束的引導(dǎo)和準(zhǔn)直。此類鏡片用于 X 射線掠入射。因此需要越來越多的長度100cm甚至更長的光學(xué)鏡片。
Fig.4 Various mirror substrates: 50 cm fused silica, 60 cm Zerodur®, 100 cm silicon
Fig.5 Stripe coating on a 50 cm silicon substrate
多層膜光學(xué)組件
這些光學(xué)組件包含多層薄膜，達到只有幾納米厚的單層膜都是非晶。多層膜可能有幾百層，如果材料有高密度差同時有低吸收率，X 射線相關(guān)的兩個參數(shù)吸收和色散依賴 X 射線波長。所以要達到優(yōu)異效果，每種波長都需要特定的多層膜。為了滿足客戶特殊要求，我們可以進行 X 射線光學(xué)模擬。就可獲得高反射率。
Fig.6 Bendable 400 mm silicon multilayer optics
雙晶體多層膜單色器
在成像用射束線站中，多層膜光學(xué)組件常被用作雙晶體多層單色器（DCMM）。例如，斷層掃面中，一個均勻和穩(wěn)定的光束輪廓是必需的，以便進行背景校正。但由于輻射的強干擾性，在設(shè)計光學(xué)組件的時候須特別謹(jǐn)慎以避免光束質(zhì)量退化。我們生產(chǎn)的多層鍍膜，可含多至5種條紋，薄膜不均勻度低于0.2%且厚度具有橫向梯度。
