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羥基化石墨烯量子點(diǎn) Hydroxylated GQDs

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  • 公司名稱 上海巨納科技有限公司
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  • 更新時(shí)間 2020/12/26 14:08:52
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羥基化石墨烯量子點(diǎn) Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分：羥基化石墨烯量子點(diǎn)
外觀：無色溶液
發(fā)光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達(dá)到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物
規(guī)格：100ml

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濃度：1毫克/毫升（可達(dá)到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物
規(guī)格：100ml

Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited by Natural Light (left) and UV Light (right)

TEM Image (2) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots 

Absorption Spectra (3) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots

 

上海巨納科技有限公司

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手機(jī)：13761090949

聯(lián)系人：袁經(jīng)理

電話：86-21-31255909

傳真：86-21-60852363

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