?產(chǎn)品簡介

NanoPVD-S10A是英國MOORFIELD公司一款桌面式高性能科研級(jí)磁控濺射系統(tǒng)，可配置DC磁控濺射靶與RF磁控濺射靶，用于沉積納米級(jí)的金屬及絕緣材料的單層或者多層功能膜與復(fù)合膜，該系統(tǒng)被上許多學(xué)術(shù)團(tuán)隊(duì)采用，是科研用戶磁控濺射的理想選擇。

?產(chǎn)品特性

? 緊湊型桌面結(jié)構(gòu)，模塊化設(shè)計(jì)

? 可選擇DC與RF兩種磁控濺射源，用于金屬薄膜及絕緣材料，如氧化物與氮化物濺射

? 大支持4英寸樣品

? 可同時(shí)安裝3個(gè)2英寸磁控濺射靶，濺射靶角度連續(xù)可調(diào)，可獨(dú)立/依次/共同濺射

? 可加3路反應(yīng)氣體，Ar，N2，O2有MFC控制

? 壓力全自動(dòng)控制，真空度低至 <5 × 10-7 mbar

? 配置Quartz crystal sensor用于薄膜厚度監(jiān)測(cè)

? 操作簡單：通過觸屏或計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)操作

? 自定義并可存儲(chǔ)多個(gè)recipe

? 操作安全：自帶各種軟硬件互鎖功能

? 可選加熱樣品臺(tái)，溫度500℃，精度+/-1℃

? 可選旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

? 售后維護(hù)簡單

? 兼容超凈間

?應(yīng)用

該系統(tǒng)用于半導(dǎo)體材料、OLED實(shí)驗(yàn)研究及有機(jī)太陽能薄膜電池實(shí)驗(yàn)研究。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。