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Hitachi CDSEM S9380 Retrofit

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General



Wafer size : 8-inch (200-mm size)



V-notch wafer of SEMI or JEIDA standards is applicable.



CD measurement principle : Cursor and line profile measurement



CD measurement range : 0.05 to 2.0 mm (either line width or hole diameter)



CD measurement reproducibility : ±1% or 0.6 nm (3 sigma), whichever larger



Throughput : due to the data after modification from Hitachi High-Technologies Corporation



Secondary electron image resolution



: 2 nm (at accelerating voltage of 0.8 kV; with



Hitachi’s reference specimen for resolution measurement)



Magnification : SEM image - 1,000to 300,000



Optical microscope image - approximay 110x (220x is optional)





升級:實驗室數(shù)據(jù)上傳接口;





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