EPMA-8050G島津場發(fā)射電子探針X射線微區(qū)分析儀可達到的高級別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV），分析條件下的二次電子分辨率。

      EPMA-8050G島津場發(fā)射電子探針X射線微區(qū)分析儀性能特點：
 

　　● 出色的空間分辨率
 

　　EPMA-8050G島津場發(fā)射電子探針X射線微區(qū)分析儀可達到的高級別的二次電子圖像分辨率3nm(加速電壓30kV)，分析條件下的二次電子分辨率。
 

　　(加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA)
 

　　● 大束流超高靈敏度分析
 

　　實現(xiàn)3.0μA(加速電壓30kV)的大束流?？沙哽`敏度進行超微量元素的面分析。并且全束流范圍無需更換物鏡光闌。
 

　　● 高性能X射線譜儀
 

　　秉承島津電子探針頗具優(yōu)勢的52.5°X射線取出角。采用4英寸羅蘭圓半徑的分光晶體兼顧高靈敏度與高分辨率?？赏瑫r搭載5通道高性能X射線譜儀。分析性能更勝*。
 

　　● 全部分析操作簡單易懂
 

　　全部操作僅靠一個鼠標就可進行的先進可操作性。追求「易懂」的人性化用戶界面。搭載導航模式，自動指引直至生成報告。
 

　　◎?qū)崿F(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的先進技術(shù)
 

　　1高亮度肖特基發(fā)射體
 

　　島津場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)定大電流。
 

　　2EPMA電子光學系統(tǒng)
 

　　電子光學系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的。簡單的透鏡結(jié)構(gòu)，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設(shè)定合適的打開角度，將電子束壓縮到細。當然是不需要更換物鏡光闌的。
 

　　3超高真空排氣系統(tǒng)
 

　　電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。
 

　　4高靈敏度X射線譜儀
 

　　島津場發(fā)射電子探針多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線的吸收，實現(xiàn)高靈敏度的分析。