高真空退火爐
設(shè)備原理：
1. 輻射加熱
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
2. 紅外線燈
紅外鍍金聚焦?fàn)t是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
3. 反射光
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。
設(shè)備特點
1. 高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。
2. 溫度控制
通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。
3. 清潔加熱
反射鏡是用曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS
4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻
高真空退火爐加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
設(shè)備結(jié)構(gòu)：
序號 | 項目 | 數(shù)量 | 品牌 | 備注 |
1 | 爐體 | 1 | 華測 | 溫度1200℃ |
2 | 加熱源 | 1 | GE（進(jìn)口） |
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3 | 溫度控制器 | 1 | 華測 |
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4 | 電熱偶 | 1 | omega |
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5 | 溫控表 | 1 | 歐姆龍（進(jìn)口） |
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6 | 穩(wěn)壓電源 | 1 | 華測 | 可定制 |
7 | 制冷水機 | 1 | 同飛 | 制冷功率8KW |
8 | 分子泵 | 1 | 萊寶（進(jìn)口） | CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
反射爐溫度控制裝置：
高速升溫時，配套的快速反應(yīng)的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設(shè)計，響應(yīng)速度快。
可選配置：
（1）進(jìn)口干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;
（2）進(jìn)口全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10-7Pa到1atm;
（3）為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗溫度；
（4）根據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；
（5）自適應(yīng)熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；
（6）可設(shè)定32個程序、256個步驟的程序；
（7）30A、60A、120A內(nèi)置了 SCR電路，所以范圍很廣。
