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NanoCalc 光譜測試儀器-NanoCalc反射法納米測厚儀

參考價 9000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 長春市海洋光電有限公司
  • 品牌
  • 型號 NanoCalc
  • 所在地 長春市
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2020/5/21 9:03:10
  • 訪問次數(shù) 583

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簡介
光學(xué)特性從反射和干涉影像中顯現(xiàn)出來。膜厚測量儀允許用戶從10nm到250μm分析光學(xué)圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達(dá)到0.1nm的單圖。根據(jù)用戶選擇的軟件,用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層,并且可以測量圖層厚度和半導(dǎo)體加工影像或者增透涂料。
特點(diǎn)
·分析單一或者多層
·分辨率到0.1nm
·適用于原地,在線測量厚度

詳細(xì)信息 在線詢價

簡介

光學(xué)特性從反射和干涉影像中顯現(xiàn)出來。膜厚測量儀允許用戶從10nm到250μm分析光學(xué)圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達(dá)到0.1nm的單圖。根據(jù)用戶選擇的軟件,用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層,并且可以測量圖層厚度和半導(dǎo)體加工影像或者增透涂料。

特點(diǎn)

·分析單一或者多層

·分辨率到0.1nm

·適用于原地,在線測量厚度

工作原理

兩個共同的通道用來測量膜層特征,光譜反射/傳播和橢圓偏光。膜厚測量儀利用反射原理來測量入射光到達(dá)樣品表面后從薄膜反射過來的波段。

通過n和k搜索

很多圖層可以被認(rèn)定是一個薄膜的堆積。很多的薄膜和基地原料都能被金屬、電介質(zhì)、非結(jié)晶或者水晶半導(dǎo)體。膜厚測量儀軟件包含一個巨大的n和k價值庫提供很多的普遍原料。用戶可以編輯和添加數(shù)據(jù)庫。同樣,用戶可以通過方程式編程或者散射公式自定義材料類型。

用途

膜厚測量儀適用于原地在線厚度檢測和移除速率應(yīng)用程序,并且可以被用來檢測氧化物的膜厚度,碳化硅,光阻材料和其他半導(dǎo)體薄膜處理。膜厚測量儀可檢測增透膜涂層、耐摩擦涂層和粗糙涂層。

膜厚測量儀

 

NANOCALC-2000-UV-VIS-NIR

波長

250-1100nm

厚度

10nm-70μm

光源

氘燈和鹵素鎢燈

NANOCALC-2000-UV-VIS

波長

250-850nm

厚度

10nm-20μm

光源

氘燈和鹵素鎢燈

NANOCALC-2000-VIS-NIR

波長

400-110nm

厚度

20nm-100μm

光源

鹵素鎢燈

NANOCALC-2000-VIS

波長

400-850nm

厚度

50nm-20μm

光源

鹵素鎢燈

NANOCALC-2000-NIR

波長

650-1100nm

厚度

70nm-70μm

光源

鹵素鎢燈

 

反射計應(yīng)用軟件,需求下面項目

NC-2UV-VIS100-2

兩支紫外光線

400μm×2m

2×SMA 連接器

靈活金屬包殼

NC-STATE

單點(diǎn)反射測量非透明樣品

Step-Wafer

5 Steps 0-500mm ,標(biāo)定誤差 4’’

 

如果應(yīng)用放大鏡,則需求下面的選項

NC-7UV-VIS200-2

反射探頭用MFA-C-Mount對顯微鏡的應(yīng)用

Stop-Wafer

5 Steps 0-500mm ,標(biāo)定誤差 4’’

 

入射角

90°

層數(shù)

3 或者 較少

附加測量需要

Yes

透明材料

Yes

傳輸模式

Yes

&, lt;, SPAN style="FONT-FAMILY: 宋體; COLOR: black; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-bidi-font-size: 10.5pt">粗糙物料

Yes

測量速度

100ms-1s

在線

Yes

機(jī)械公差(高度)

新參考資料或者準(zhǔn)直(74-UV)

機(jī)械公差(角度)

Yes,有新的參考資料

微黑子選項

Yes,有顯微鏡

視覺選項

Yes,有顯微鏡

映射選項

6″和12″XYZ映射表格

真空

Yes

 

 

 


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