高級薄膜測定系統(tǒng)

NKD-8000系統(tǒng)綜合了光學、電子學和高級分析軟件，是目前測定多層薄膜和基片的折射率、吸收系數(shù)和厚度zui精確、zui易用的系統(tǒng)。NKD-8000系列產(chǎn)品具有全自動、可同時測定透過光譜和反射光譜，入射光角度從0°到90°連續(xù)改變。對分光光譜儀而言，這是一項*的新功能，使得NKD-8000適用于挑戰(zhàn)性的光學測量。對多層薄膜和基片的n、k和d的測定變得準確、快捷。

光譜范圍                      

NKD-8000     350nm—1000nm （ 標準模式 ）

NKD-8000v    280nm—1000nm （ 紫外增強型）

NKD-8000r    800nm—1700nm （ 紅 外 型 ） 

NKD-8000w    350nm—1700nm （寬光譜 型 ）          

NKD-8000e    350nm—2200nm （超寬光譜 型 ）

注：寬光譜型提供兩個檢測器，可以覆蓋350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm （僅適用nkd-8000e），但二者不能同時用。

獲得數(shù)據(jù)時間                  

2—10分鐘，這取決于光譜范圍和不同選件

數(shù)據(jù)分析時間                  

5秒—5分鐘，取決于數(shù)據(jù)的復雜程度

光譜分辨率                   

1nm或2nm （可選）

光源                           

NKD-8000v    150W 氙弧燈

其他          高穩(wěn)態(tài)100W石英鎢鹵燈          

樣品尺寸                       

10×10mm到200×250mm標準系統(tǒng),100mm 直徑樣品的掃描臺

層數(shù)                           

至多5層，兩個未知參數(shù)

薄膜厚度范圍                  

1nm到25um，取決于角度、偏振和波長

1nm 需要增加橢偏模塊

基片                           

透明、半透明或半吸收或半導體

材料                           

電介質(zhì)、高聚物、半導體和金屬

精確度                         

對于半吸收薄膜         典型           zui大

薄膜厚度               ＜1%          ＜3%

折射率                 ＜0.1%        ＜1%

消光系數(shù)               ＜1%          ＜3%

對于金屬薄膜

薄膜厚度               ＜1%          ＜3%

折射率                 ＜1%          ＜3%

消光系數(shù)               ＜1%          ＜3%

重現(xiàn)性                          

透射率                 ＜0.01%      ＜0.1%

反射率                 ＜0.01%      ＜1%

折射系數(shù)               ＜0.01%      ＜0.1%

入射光角度            

30°、50°或70°（標準單元）或由客戶的從

20°到70°連續(xù)可變（可變角版本）或3個位置角度

樣品上的光斑尺寸              

5mm（標準系統(tǒng)），250um（選件）

電源                           

220V，50Hz，2A 或110V，60Hz，3A

外觀尺寸                      

890×540×720mm

重量                           

105Kg

選件                           

多角度，可變角度，X-Y樣品掃描臺，多種標準尺寸品架。樣品觀測顯微鏡。手動或全軟件控制的偏振選件（s-、p-或非偏振）。樣品加熱臺。臺式機或工業(yè)PC。      

主要特點

◆ 可測定波長范圍從280nm到2300nm的透射和反射光譜

◆ 在同一區(qū)域可同時測定T和R值

◆ 可對折射率（n），吸收系數(shù)（k） 和厚度（d）進行準確測定

◆ 樣品可在X-Y掃描臺上進行掃描

◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和從0°到90°的連續(xù)變化的角度

◆ 可用s-、p-或非偏振光作為入射光對T和R進行測定

◆ 可對透明基片進行測定且不需要對樣品進行前處理

◆ 內(nèi)建的材料數(shù)據(jù)庫

◆ 密封的樣品室

◆ 可選擇散射模式

◆ 具有在線或離線分析功能

對T和R同時測定

KD-8000系統(tǒng)在同一個光斑處，同時對透過光譜和發(fā)射光譜進行測定，保證了兩套數(shù)據(jù)具有直接的相關性。通過測定這些光譜，全自動的控制和分析軟件系統(tǒng)可以從中得到n、k和d值。而且所有這些都源自同一次測定。不同散射模式的選擇使得對寬廣范圍材料的分析成為可能，而且用戶可以選擇缺省模式或者高級分析模式。

功能強大的Pro-Optix^TM控制和分析軟件系統(tǒng)包括一個可編輯的數(shù)據(jù)庫，它允許對材料進行預先定義，以提高分析速度。該軟件的其他特點包括顏色的匹配和太陽光的計算以及金屬薄膜的算法。樣品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而無需對它們特殊處理。

NKD-8000是*一款能全部提供上述功能的分光型光學薄膜分析系統(tǒng)，它為薄膜表征設立了一個標準。

可變的入射光角度

①反射光檢測 ②光束管 ③Y軸坐標 ④透射光檢測器 ⑤Z軸坐標 ⑥X軸坐標 ⑦樣品臺 ⑧馬達驅動的可變角度選擇裝置

NKD-8000系統(tǒng)提供可變的角度選擇裝置，它提供*馬達驅動的，可由PC機控制入射光的角度，入射角度從從0°到90°可自由選擇。

通過使用分析軟件中的集成工具就可實現(xiàn)對T和R的s-偏振光譜和p-偏振光譜進行獨立分析或二者一起分析。

通過作為選件的X-Y掃描臺可以對大尺寸樣品進行掃描，樣品在X、Y兩個方向上的zui大行程是100mm，同時保持入射光斑始終位于行程的中間。

在測定時有許多樣品架備選，它們可以夾持不同類型尺寸的樣品。全PC控制使這種方法對整個樣品的數(shù)據(jù)收集和分析變得簡單、準確和快捷。

多個角度

如果在應用中只需一些不連續(xù)的入射光角度，那么多角度選件可以提供一個滿意的解決方案。從0°到90°，用戶可自定義三個入射光角度。

附件

熱臺：可控制樣品溫度至150度，測定變溫下的T和R，對測定光學涂層和基體的光譜位移十分有用。

顯微鏡/相機：對樣品進行顯微分析。

微光斑附件：將入射光斑聚焦至200微米，特別適合表征微小樣品和局部區(qū)域。