一、光譜橢偏儀適用于材料范圍：
半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬、多層膜物質(zhì)等
二、光譜橢偏儀技術(shù)參數(shù)：
| 膜厚范圍 | 1nm～5um |
| 厚度分辨度 | 0.1 nm |
| 膜厚準(zhǔn)確度 | 1mm |
| 光學(xué)參數(shù) | 可得出：n（折射率）、k（吸收率）值 |
| 折射率精度 | 0.005 |
| 測量時間 | 3～15秒（典型10秒） |
| 入射角度 | 70°（其它可選） |
| 波長范圍 | 450 - 900 nm （ 380 - 780 nm 可選） |
| 波長分辨率 | 4 nm |
| 光斑大小 | 2×4 mm（200×400um可選） |
| 樣品定位允許誤差 | 高度允許±1.5 mm，角度允許±1°。不需進行樣品放置高度和角度調(diào)整 |
| 顯微鏡 | 可與顯微鏡匹配使用，用于同時觀察膜層和材料的微觀結(jié)構(gòu) |
| 掃描測量 | 可以掃描測量，掃描范圍6英寸或12英寸 |
| 真空應(yīng)用 | 可以在真空和非真空環(huán)境中使用 |
三、光譜橢偏儀涉及領(lǐng)域行業(yè)：
半導(dǎo)體、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥…
四、光譜橢偏儀檢測范圍：
1、早些年，橢偏儀的工作波長為單波長或少數(shù)獨立的波長，zui典型的是采用激光或?qū)﹄娀〉葟姽庾V光進行濾光產(chǎn)生的單色光源?，F(xiàn)在大多數(shù)的橢偏儀在很寬的波長范圍內(nèi)以多波長工作（通常有幾百個波長，接近連續(xù)）。和單波長的橢偏儀相比，多波長光譜橢偏儀有下面的優(yōu)點：可以提升多層探測能力，可以測試物質(zhì)對不同波長光波的折射率等。
2、光譜橢偏儀的光譜范圍在深紫外的142nm到紅外33µm可選。光譜范圍的選擇取決于被測材料的屬性、薄膜厚度及關(guān)心的光譜段等因素。例如，摻雜濃度對材料紅外光學(xué)屬性有很大的影響，因此需要能測量紅外波段的橢偏儀；薄膜的厚度測量需要光能穿透這薄膜，到達基底，然后并被探測器檢測到，因此需要選用該待測材料透明或部分透明的光譜段；對于厚的薄膜選取長波長更有利于測量。
五、光譜橢偏儀工作原理：
1、給出了橢偏儀的基本光學(xué)物理結(jié)構(gòu)。已知入射光的偏振態(tài)，偏振光在樣品表面被反射，測量得到反射光偏振態(tài)（幅度和相位），計算或擬合出材料的屬性。
2、入射光束（線偏振光）的電場可以在兩個垂直平面上分解為矢量元。P平面包含入射光和出射光，s平面則是與這個平面垂直。類似的，反射光或透射光是典型的橢圓偏振光，因此儀器被稱為橢偏儀。關(guān)于偏振光的詳細描述可以參考其他文獻。在物理學(xué)上，偏振態(tài)的變化可以用復(fù)數(shù)ρ來表示：
3、其中，ψ和?分別描述振幅和相位。P平面和s平面上的Fresnel反射系數(shù)分別用復(fù)函數(shù)rp和rs來表示。rp和rs的數(shù)學(xué)表達式可以用Maxwell方程在不同材料邊界上的電磁輻射推到得到。
4、其中?0是入射角，?1是折射角。入射角為入射光束和待研究表面法線的夾角。通常橢偏儀的入射角范圍是45°到90°。這樣在探測材料屬性時可以提供*的靈敏度。每層介質(zhì)的折射率可以用下面的復(fù)函數(shù)表示
5、通常n稱為折射率，k稱為消光系數(shù)。這兩個系數(shù)用來描述入射光如何與材料相互作用。它們被稱為光學(xué)常數(shù)。實際上，盡管這個值是隨著波長、溫度等參數(shù)變化而變化的。當(dāng)代測樣品周圍介質(zhì)是空氣或真空的時候，N0的值通常取1.000。
6、通常橢偏儀作為波長和入射角函數(shù)的ρ的值（經(jīng)常以ψ和?或相關(guān)的量表示）。一次測量完成以后，所得的數(shù)據(jù)用來分析得到光學(xué)常數(shù)，膜層厚度，以及其他感興趣的參數(shù)值。如下圖所示，分析的過程包含很多步驟。
7、可以用一個模型（model）來描述測量的樣品，這個模型包含了每個材料的多個平面，包括基底。在測量的光譜范圍內(nèi)，用厚度和光學(xué)常數(shù)（n和k）來描述每一個層，對未知的參數(shù)先做一個初始假定。zui簡單的模型是一個均勻的大塊固體，表面沒有粗糙和氧化。這種情況下，折射率的復(fù)函數(shù)直接表示。但實際應(yīng)用中大多數(shù)材料都是粗糙或有氧化的表面，因此上述函數(shù)式常常不能應(yīng)用。
8、下一步，利用模型來生成Gen.Data，由模型確定的參數(shù)生成Psi和Detla數(shù)據(jù)，并與測量得到的數(shù)據(jù)進行比較，不斷修正模型中的參數(shù)使得生成的數(shù)據(jù)與測量得到的數(shù)據(jù)盡量*。即使在一個大的基底上只有一層薄膜，理論上對這個模型的代數(shù)方程描述也是非常復(fù)雜的。因此通常不能對光學(xué)常數(shù)、厚度等給出類似上面方程一樣的數(shù)學(xué)描述，這樣的問題，通常被稱作是反演問題。
9、zui通常的解決橢偏儀反演問題的方法就是在衰減分析中，應(yīng)用Levenberg-Marquardt算法。利用比較方程，將實驗所得到的數(shù)據(jù)和模型生成的數(shù)據(jù)比較。通常，定義均方誤差為：
10、在有些情況下，zui小的MSE可能產(chǎn)生非物理或非*的結(jié)果。但是加入符合物理定律的限制或判斷后，還是可以得到很好的結(jié)果。衰減分析已經(jīng)在橢偏儀分析中收到成功的應(yīng)用，結(jié)果是可信的、符合物理定律的、精確可靠。
六、光譜隨偏儀器結(jié)構(gòu)構(gòu)造：
1、在光譜橢偏儀的測量中使用不同的硬件配置，但每種配置都必須能產(chǎn)生已知偏振態(tài)的光束。測量由被測樣品反射后光的偏振態(tài)。這要求儀器能夠量化偏振態(tài)的變化量ρ。
2、有些儀器測量ρ是通過旋轉(zhuǎn)確定初始偏振光狀態(tài)的偏振片（稱為起偏器）。再利用第二個固定位置的偏振片（稱為檢偏器）來測得輸出光束的偏振態(tài)。另外一些儀器是固定起偏器和檢偏器，而在中間部分調(diào)制偏振光的狀態(tài)，如利用聲光晶體等，zui終得到輸出光束的偏振態(tài)。這些不同的配置的zui終結(jié)果都是測量作為波長和入射角復(fù)函數(shù)ρ。
3、在選則合適的橢偏儀的時候，光譜范圍和測量速度也是一個通常需要考慮的重要因素。可選的光譜范圍從深紫外的142nm到紅外的33µm。光譜范圍的選擇通常由應(yīng)用決定。不同的光譜范圍能夠提供關(guān)于材料的不同信息，合適的儀器必須和所要測量的光譜范圍匹配。
4、測量速度通常由所選擇的分光儀器（用來分開波長）來決定。單色儀用來選擇單一的、窄帶的波長，通過移動單色儀內(nèi)的光學(xué)設(shè)備（一般由計算機控制），單色儀可以選擇感興趣的波長。這種方式波長比較準(zhǔn)確，但速度比較慢，因為每次只能測試一個波長。如果單色儀放置在樣品前，有一個優(yōu)點是明顯減少了到達樣品的入射光的量（避免了感光材料的改變）。另外一種測量的方式是同時測量整個光譜范圍，將復(fù)合光束的波長展開，利用探測器陣列來檢測各個不同的波長信號。在需要快速測量的時候，通常是用這種方式。傅立葉變換分光計也能同時測量整個光譜，但通常只需一個探測器，而不用陣列，這種方法在紅外光譜范圍應(yīng)用。
