產(chǎn)品概述
金屬材料檢測(cè)領(lǐng)域超*的全譜直讀光譜儀
CCD全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，與光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字化激發(fā)光源、*的CCD檢測(cè)器、高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有*的性能、極低的檢出線、*的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。
產(chǎn)品特色
1、CCD全譜光譜制造技術(shù)通道不受限制。 ；
2、與光譜儀技術(shù)同步，采用真空全譜技術(shù)，快速穩(wěn)定。
3、自動(dòng)譜庫(kù)尋找，無(wú)需再繁瑣的波峰掃描工作。
4、隨時(shí)增加分析材料種類及分析元素，無(wú)須變動(dòng)增加硬件。
5、智能分析模式，快速準(zhǔn)確測(cè)定各種金屬材料中的元素含量。
6、體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便。
7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性。
8、采用真空光室結(jié)構(gòu)相對(duì)與沖氬式光譜儀氬氣消耗低。
優(yōu)化設(shè)計(jì)的真空光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)系統(tǒng)帕邢-龍格結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，所有譜線集成在羅欄園上。
真空技術(shù)整體光學(xué)室裝置及光學(xué)部件整體集成大限度的保障光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
采用直射式光學(xué)技術(shù)及透鏡采取MgF2材料，保證C、S、P、N紫外波長(zhǎng)的合適能量。
全數(shù)字激發(fā)光源
1、全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，可以根據(jù)不同材料的激發(fā)特點(diǎn)自動(dòng)調(diào)節(jié)光源激發(fā)參數(shù)，真正實(shí)現(xiàn)全數(shù)字化控制。
2、采用全數(shù)字控制模式，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS），超穩(wěn)定的能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。
3、全數(shù)字光源的應(yīng)用，提高了樣品的測(cè)量精度和相似性，提高了樣品激發(fā)速度，-提高火花穩(wěn)定性，使樣品有更好的重現(xiàn)性。
4、放電頻率100Hz-1000Hz可調(diào)
5、大放電電流達(dá)到400A。
功能性設(shè)計(jì)的激發(fā)裝置
集成氣路設(shè)計(jì)、噴射電極技術(shù)，*的火花臺(tái)以及采用等離子激發(fā)，不僅保證樣品測(cè)量精度還能夠測(cè)量各種復(fù)雜形狀的樣品（含線材）。
銅火花臺(tái)制造，使樣品激發(fā)中具有良好的散熱效果，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性。
單板式透鏡裝置設(shè)計(jì)，一般人員都能方便對(duì)激發(fā)臺(tái)進(jìn)行維護(hù)和透鏡的清洗。
高集成、高速度讀出系統(tǒng)
3648像素的高性能CCD固態(tài)檢測(cè)技術(shù)，檢測(cè)靈敏度高，全譜讀取所有元素的譜線，實(shí)現(xiàn)波段內(nèi)的全譜接收，交替放置的CCD探測(cè)器滿，動(dòng)態(tài)范圍大，譜線選擇靈活。
采用FPGA技術(shù)及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)，數(shù)據(jù)讀入功能強(qiáng)大，檢測(cè)數(shù)據(jù)整體讀入時(shí)間短，提高了儀器的分析速度。
直觀、易操作的分析軟件
基于WINDOWS系統(tǒng)的多國(guó)語(yǔ)言的CCD全譜分析軟件全面的管理和控制整個(gè)測(cè)量過程，為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力。
儀器操作全程監(jiān)控，實(shí)時(shí)報(bào)警，使分析人員及時(shí)掌握儀器的分析動(dòng)態(tài)和運(yùn)營(yíng)狀態(tài)。
儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*的解決方案。
儀器實(shí)現(xiàn)全譜分析，智能扣干擾，扣暗電流、背景和噪聲的算法，*地提高了儀器的分析能力。
CCD全譜直讀光譜儀產(chǎn)品參數(shù)
分析基體Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光學(xué)結(jié)構(gòu)帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍130-800nm（可分析N元素）
焦距400mm
光柵刻線3000條/mm
探測(cè)器高性能CCD陣列,每塊CCD 3,648 像素，
CCD像素分辨率6pm
電極鎢材噴射電極
分析間隙樣品臺(tái)分析間隙：4mm
光源類型全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
激發(fā)頻率100-1000Hz
大放電電流400A
