產(chǎn)品介紹
儀器簡(jiǎn)介：
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)
原產(chǎn)國(guó): 韓國(guó)，能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性價(jià)比
型號(hào)：KCMA-100；
又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
ECOPIA為*的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多*企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以不錯(cuò)的技術(shù)、*的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
感謝南開(kāi)大學(xué)，中科院半導(dǎo)體所,中科院長(zhǎng)春應(yīng)化所，中科院物理所，浙江師范大學(xué)使用此設(shè)備做課題研究??！
此型號(hào)光刻機(jī)是所有進(jìn)口設(shè)備中性能價(jià)格比高的型號(hào)，達(dá)到歐美品牌的對(duì)準(zhǔn)精度，CCD顯示屏對(duì)準(zhǔn)更為方便，液晶觸摸屏操作，采用歐司朗紫外燈，壽命長(zhǎng)。整機(jī)效果皮實(shí)耐用，正常使用3年內(nèi)不會(huì)出問(wèn)題??！
目前，上海藍(lán)光已采用該公司全自動(dòng)型光刻機(jī)做LED量化生產(chǎn)，證明其品質(zhì)達(dá)到LED產(chǎn)業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求??！而且已經(jīng)成功提供圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻工藝設(shè)備.
技術(shù)參數(shù)：
- 基片尺寸：4、6、8、12、25英寸，其他尺寸可定制；
- 光束均勻性：<±3%；
- 曝光時(shí)間可調(diào)范圍：0.1 to 999.9秒；
- 對(duì)準(zhǔn)精度：0.6-1微米
- 分辨率：1微米；
- 光束輸出強(qiáng)度：15-25mW/cm2；
項(xiàng)目 技術(shù)規(guī)格
曝光系統(tǒng)(Exposure System)
MDA-400M型 光源功率 350W UV Exposure Light source with Power supply
分辨率 - Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer )
- Hard Contact : 1um
- Soft contact : 2um
- 20um Proximity: 5um
大光束尺寸 4.25×4.25 inch
光束均勻性 ≤ ±3% (4inch standard)
光束強(qiáng)度 15~20mW/cm2 (365nm Intensity)
曝光時(shí)間可調(diào)整 0.1 to 999.9 sec
對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(Alignment System) 對(duì)準(zhǔn)精度 1um
對(duì)準(zhǔn)間隙 手動(dòng)調(diào)節(jié)(數(shù)字顯示)
光刻模式 真空, 硬接觸, 軟接觸，漸進(jìn)（Proximity）
卡盤水平調(diào)節(jié) 楔形錯(cuò)誤補(bǔ)償Wedge Error Compensation
真空卡盤移動(dòng) X, Y: 10 mm, Theta: ±5°
Z向移動(dòng)范圍 10mm
接近調(diào)整步幅 1um
樣品(Sample) 基底 Substrate 2, 3, 4 inch
掩模板尺寸 4 and 5 inch
Utilities 真空 Vacuum < -200 mbar (系統(tǒng)包含真空泵)
壓縮空氣 CDA > 5Kg/cm2
氮?dú)?N2 >3Kg/cm2
電源 Electricity 220V, 15A, 1Phase
顯微鏡及顯示器
CCD and Monitor Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x;
光刻機(jī) / 紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)的主要特點(diǎn)：
- 光源強(qiáng)度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統(tǒng)控制：手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調(diào)；
- 技術(shù)：可雙面對(duì)準(zhǔn)，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 兩個(gè)CCD顯微鏡系統(tǒng)，大放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對(duì)準(zhǔn)更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補(bǔ)償功能；
