項目
單位
箱式真空氣氛爐
MyFQ-4-17型
MyFQ-15-17型
MyFQ-28-17型
額定加熱功率
kW
4
15
28
電壓/相數(shù)/頻率
V/相/Hz
220/1/50～60
380/2/50～60
1200、1400、1600、1700

不同的材料選擇適宜的氣氛燒結(jié)，有助于燒結(jié)過程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結(jié)，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結(jié)，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結(jié)。有時為保護燒結(jié)調(diào)協(xié)也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。
真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結(jié)合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于一個大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進行的，真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。

項目
單位
箱式真空氣氛爐
MyFQ-4-17型
MyFQ-15-17型
MyFQ-28-17型
額定加熱功率
kW
4
15
28
電壓/相數(shù)/頻率
V/相/Hz
220/1/50～60
380/2/50～60
380/2/50～60
工作室尺寸
(長×寬×高)
mm
300×200×200
400×300×300
500×400×400
溫度
℃
1200、1400、1600、1700
常用溫度
℃
室溫～1100、1300、1500、1600
空爐升溫時間
min
≤90
≤90
≤90
溫度均勻度
℃
≤±1.5
≤±1.5
≤±2.5
溫控波動度
℃
±1
溫控方式
 
智能型程序模糊PID控制
外形尺寸
(長×寬×高)
mm
550×560×850
650×700×1450
1000×900×1600
重量(毛重)
kg
110～150
140～260
220～420