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X射線能譜EDS

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X射線能譜EDS
新一代的QUANTAX能譜儀采用*的 slim-line 技術(shù),并可搭載不同有效面積的XFlash® 6探頭。而且,依托于改進(jìn)的超級數(shù)模雙通道脈沖處理器,布魯克又一次為能譜儀的操作性和功能性建立了新的標(biāo)準(zhǔn)。
利用以上科技,布魯克第六代電致冷能譜儀為微米尺度甚至納米尺度的微區(qū)分析提供了迄今為止zui為快速和可靠的分析工具。

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X射線能譜EDS

新一代的QUANTAX能譜儀采用*的 slim-line 技術(shù),并可搭載不同有效面積的XFlash® 6探頭。而且,依托于改進(jìn)的超級數(shù)模雙通道脈沖處理器,布魯克又一次為能譜儀的操作性和功能性建立了新的標(biāo)準(zhǔn)。

利用以上科技,布魯克第六代電致冷能譜儀為微米尺度甚至納米尺度的微區(qū)分析提供了迄今為止zui為快速和可靠的分析工具。

布魯克第六代XFlash® 探測器

種探頭面積可選

10, 30, 60 及 100 mm² 的探頭面積可選,提供微量分析及納米分析的理想解決方案

超高脈沖數(shù)據(jù)處理能力,保證zui快的測量速度

輸入計數(shù)率超過

輸出計數(shù)率超過

的能量分辨率,保證*的輕元素和低能端分析

121eV limited edition

123eV ultimate

126eV premium

129eV standard

所有能量分辨率指標(biāo)均優(yōu)于 的要求

Slim-line 技術(shù):更高的計數(shù)率,更低束流下的分析

簡潔的設(shè)計,探頭小巧輕便

探測器重量不超過

® 6 for SEM

® 6 | 10 及 6 | 30涵蓋絕大部分應(yīng)用領(lǐng)域, 包括高束流分析、低電壓(納米)分析和低真空分析。而XFlash® 6 | 60 和 6 | 100 則適用于一些不常見應(yīng)用領(lǐng)域,包括低束流分析和對束流極其敏感的樣品。

XFlash® 6 | 10 *能量分辨率SDD

10 mm² 探測器具有分辨率 Mn Ka 121 eV 業(yè)內(nèi)的能量分辨率;

XFlash® 6 | 30 效率超高的全面分析能手

XFlash® 6 | 60 大面積SDD,納米分析專家

60 mm² SDD 適用于低束流分析;

XFlash® 6 | 100 zui大的探測面積,為低束流應(yīng)用而生

100 mm² 有效面積,解決一些特殊測試需要;

® 6T for TEM

Bruker XFlash® 6T 實現(xiàn)在 TEM 和 S/TEM 中zui大的固體角,zui大程度的減少了對電鏡在機械和電磁方面的干擾。提供*的檢出角,避免不必要的樣品傾斜。

XFlash® 6T | 30 *適用于像差校正透射電子顯微鏡的SDD

XFlash® 6T | 60 固體角zui大的SDD,為埃米級別透射電子顯微鏡分析而生

60 mm²有效面積,專門適合分析中只有極低X射線產(chǎn)額的情


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