X射線(xiàn)熒光鍍層厚度測(cè)量 FT9500X系列
極微小部位的薄膜?多層膜測(cè)量
通過(guò)采用新型的毛細(xì)管（X射線(xiàn)聚光系統(tǒng)）和X射線(xiàn)源，把與以往機(jī)型（SFT9500）同等強(qiáng)度的X射線(xiàn)聚集在30 μmΦ的極微小范圍。因此，不會(huì)改變測(cè)量精度即可測(cè)量幾十微米等級(jí)的微小范圍。同時(shí)，也可對(duì)幾十納米等級(jí)的Au/Pd/Ni/Cu多鍍層的各層膜厚進(jìn)行高精度測(cè)量。

X射線(xiàn)熒光鍍層厚度測(cè)量 FT9500X系列

1. 一、極微小部位的薄膜?多層膜測(cè)量
   X射線(xiàn)熒光鍍層厚度測(cè)量 FT9500X系列通過(guò)采用新型的毛細(xì)管（X射線(xiàn)聚光系統(tǒng)）和X射線(xiàn)源，把與以往機(jī)型（SFT9500）同等強(qiáng)度的X射線(xiàn)聚集在30 μmΦ的極微小范圍。因此，不會(huì)改變測(cè)量精度即可測(cè)量幾十微米等級(jí)的微小范圍。同時(shí)，也可對(duì)幾十納米等級(jí)的Au/Pd/Ni/Cu多鍍層的各層膜厚進(jìn)行高精度測(cè)量。

2. 二、掃描測(cè)量
   FT9500X系列通過(guò)微小光束對(duì)樣品進(jìn)行XY掃描，可把樣品的鍍層厚度分布和特定元素的含量分布輸出為二維掃描圖像數(shù)據(jù)，更方便進(jìn)行簡(jiǎn)單快速的觀察。

3. 三、異物分析
    FT9500X系列通過(guò)高能量微小光束和高計(jì)數(shù)率檢測(cè)器的組合，可進(jìn)行微小異物的定性分析。利用CCD攝像頭選定樣品的異物部分并照射X射線(xiàn)，通過(guò)與正常部分的能譜差進(jìn)行異物的定性分析（Al～U）。

     四、技術(shù)參數(shù)

1. 型號(hào)	FT9500X	FT9550X
   測(cè)量元素	原子序號(hào)Al（13）～Bi（83）
   X射線(xiàn)源	管電壓：50（可變更）kV 管電流： 10～1000 µA
   檢測(cè)器	半導(dǎo)體檢測(cè)器（無(wú)液化氮）
   X射線(xiàn)光束照射	實(shí)際照射0.03 mmΦ
   樣品觀察	CCD攝像頭（帶變焦功能）
   對(duì)焦	激光對(duì)焦（自動(dòng)）
   濾波器	Au極薄膜測(cè)量用濾波器
   樣品區(qū)域	240(W) × 175(D) mm X:220 mm, Y:150 mm, Z:150 mm	420(W) × 330(D) mm X:400 mm, Y:285 mm, Z:50 mm
   測(cè)量軟件	薄膜FP法（zui大5層）、薄膜檢量線(xiàn)法
   安全功能	樣品門(mén)聯(lián)鎖

   選購(gòu)項(xiàng)

   能譜匹配軟件（材料辨別）