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儀器網 展商報道】2024年10月23日，第十四屆中國國際納米技術產業(yè)博覽會(簡稱“納博會”)在蘇州國際博覽中心盛大開幕。作為納米科技領域的盛會，納博會吸引了全球各地的納米技術相關企業(yè)、科研機構和專業(yè)觀眾前來參展和交流。本次展會聚焦微納制造、第三代
半導體、柔性印刷
電子、納米壓印、纖維/凝膠/影像材料、光電/激光、新型顯示、分析檢測、納米應用等領域，為納米領域技術展示和交流提供重要平臺。上海納騰儀器有限公司(以下簡稱“納騰儀器”)作為納米科學儀器領域的佼佼者，攜其產品亮相此次納博會，成為展會的一大亮點。
納騰儀器是一家專注于為微納米科學領域提供相關設備和服務的企業(yè)，同時也是國內微納耗材銷售眾多的公司。自成立以來，一直致力于推薦、引進和轉化在納米科學、物理、
化學、材料科學、生命科學等科研教學領域內起重要作用的新儀器和新產品。此次參展，公司帶來了多款產品，包括Zeta光學輪廓儀、Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)、Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)等。
在展會現場，納騰儀器的展位吸引了眾多專業(yè)觀眾的目光。公司代表詳細介紹了產品的技術特點和應用領域，并現場演示了產品的操作流程和實際效果，贏得了現場觀眾的一致好評。
上海納騰儀器有限公司展位
Zeta光學輪廓儀
Zeta光學輪廓儀
基于 ZDot 專利技術，KLA 的 Zeta-20/300 光學輪廓儀可以對近乎所有材料和結構進行三維成像測量分析，從超光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質。由于多種光學模式和模塊化設計理念，納騰儀器為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項來滿足各種不同的測量需求，所有硬件安裝和操作都簡單易用。Zeta-20三維光學輪廓儀集成了六種光學計量技術，同時采集高分辨率 3D 掃描和真彩色無限對焦圖像，也可用于樣品審查或自動缺陷檢測。該產品廣泛應用于醫(yī)療衛(wèi)生、電子、航天、汽車等領域。
Zeta-20三維光學輪廓儀優(yōu)點：
1.多功能——能夠在任何表面上進行多次測量
2.特定應用軟件和算法
3.對振動和樣品傾斜不敏感
4.高光通量設計——實現其他系統(tǒng)無法進行的測量
5.易于使用——用戶可以快速啟動和運行
Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)
Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝,是光刻工藝的延伸應用。電子束曝光系統(tǒng)是實現電子束曝光技術的硬件平臺，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等指標。
Pharos 310可在4寸基片上曝光<20nm關鍵特征尺寸。利用Pharos310系統(tǒng)可輕松曝光復雜版圖，是實驗室條件下進行亞微米至納米級別光刻技術研發(fā)的利器。
Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)
Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)
Filmetrics R50是KLA薄膜電阻和電導率系統(tǒng)的最新產品，它的性能針對金屬膜均勻性映射、離子摻雜和注入表征、膜厚度和電阻率映射以及非接觸膜厚度測量進行了優(yōu)化，被廣泛應用于半導體、復合半導體、先進封裝、太陽能、平板和VR顯示、印刷電路、可穿戴設備、導電材料等領域。
Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)的優(yōu)勢：
1.可選接觸式四探針探頭和非接觸式渦流探頭
2.最大樣品高度100mm，具有粗調和細調兩種高度控制方式
3.導電材料和半導體薄膜的測量技術領先十年
4.使用矩形、線性、極軸和自定義配置的測試點自定義編輯
5.高精度X-Y工作臺，Z向行程200mm。
6.易于使用的軟件界面
7.兼容所有KLA薄膜電阻探頭
此次亮相納博會，不僅展示了納騰儀器在納米科學儀器領域的較高地位和創(chuàng)新能力，也為公司拓展市場、提升品牌影響力提供了重要契機。未來，上海納騰儀器有限公司將繼續(xù)秉承“創(chuàng)新、專業(yè)、服務”的企業(yè)理念，致力于為各大高校、科研院所、工廠企事業(yè)單位提供先進的科學儀器及相關耗材，為推動祖國微納米事業(yè)的騰飛貢獻更多力量。
此次納博會的成功舉辦，不僅為全球納米技術產業(yè)搭建了一個交流與合作的重要平臺，也為納騰儀器等企業(yè)提供了展示實力、拓展市場的寶貴機會。相信在未來的發(fā)展中，納米技術將繼續(xù)引領科技創(chuàng)新的潮流，為人類社會帶來更多的福祉和進步。
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