2024年3月20日,慕尼黑上海光博會(huì)在上海新博覽中心順利舉行。本次展會(huì)展出面積超80000平方米,邀請(qǐng)了來(lái)自全球23個(gè)國(guó)家和地區(qū)的1160家展商共聚上海,吸引了國(guó)內(nèi)外超9萬(wàn)名觀眾參觀。展商及觀眾對(duì)本屆光博會(huì)都給予了高度評(píng)價(jià)。其中,廈門(mén)韞茂科技有限公司憑借自身過(guò)硬的實(shí)力,在本屆光博會(huì)脫穎而出,成為焦點(diǎn)之一。
廈門(mén)韞茂科技有限公司展位
廈門(mén)韞茂科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng):韞茂科技)成立于2018年,是一家以納米級(jí)薄膜沉積工藝技術(shù)為核心的多領(lǐng)域全棧式薄膜沉積方案供應(yīng)商,致力于為客戶提供全方位的技術(shù)解決方案以及先進(jìn)的納米材料薄膜沉積裝備。
一直以來(lái),韞茂科技都堅(jiān)持在技術(shù)上尋求突破,專(zhuān)注于將前沿技術(shù)融入到產(chǎn)品生產(chǎn)中,從先進(jìn)制造國(guó)產(chǎn)化痛點(diǎn)著手,以自主創(chuàng)新打開(kāi)國(guó)內(nèi)高端產(chǎn)品市場(chǎng)。目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD
化學(xué)氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣。
而在本次展會(huì)現(xiàn)場(chǎng),韞茂科技重點(diǎn)展示了PBATCH批次型等
離子體ALD,吸引了眾多觀眾前來(lái)咨詢與交流。
PBATCH批次型等離子體ALD
PBATCH實(shí)現(xiàn)低溫高質(zhì)量PEALD工藝,可應(yīng)用在高分子材料襯底等溫度敏感的襯底,制備氧化物、氮化物、
金屬層等應(yīng)用,最大可支持多片12寸樣品。而ALD沉積速率低,限制了生產(chǎn)效率,批次性ALD可大幅提高ALD產(chǎn)能,降低客戶使用成本。
產(chǎn)品亮點(diǎn)
•全自動(dòng)、多片、大批量生產(chǎn);
•批次等離子體ALD可為客戶帶來(lái)更多功能性薄膜選擇;
•可提高ALD產(chǎn)能,降低客戶使用成本,實(shí)現(xiàn)極致COO;
•可在光學(xué)薄膜沉積上實(shí)現(xiàn)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化替代;
•工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖、報(bào)警、EMO。
CBATCH 300S 新型多片批次型ALD
多片批次式ALD,能夠?qū)崿F(xiàn)全自動(dòng)、多片、連續(xù)化生產(chǎn),有效提高產(chǎn)能,降低COO。并且多片批次式ALD能夠?qū)崿F(xiàn)原子級(jí)別的精確控制,ALD沉積薄膜無(wú)針孔,質(zhì)量高,可作為高K值介質(zhì)層,金屬層,封裝層,電鍍種子層及其他功能層應(yīng)用,廣泛應(yīng)用于Mini/Micro LED、第三代半導(dǎo)體以及集成電路制造等領(lǐng)域。
產(chǎn)品亮點(diǎn)
•3D鍍膜實(shí)現(xiàn)原子級(jí)別精確控制
•高度精度、高重復(fù)性全自動(dòng)上下料傳輸
•全自動(dòng)、多片、連續(xù)化生產(chǎn),有效提高產(chǎn)能,降低COO
•實(shí)現(xiàn)超高深寬比(1000:1)結(jié)構(gòu)的鍍膜,ALD沉積薄膜無(wú)針孔,質(zhì)量高
自成立以來(lái),韞茂科技始終將實(shí)現(xiàn)客戶價(jià)值觀作為企業(yè)使命,以成本低、質(zhì)量高、品種新、服務(wù)優(yōu)、交期準(zhǔn)為專(zhuān)業(yè)基礎(chǔ),以客戶為中心,主動(dòng)了解客戶需求,努力為顧客提供全面針對(duì)性的解決方案。未來(lái)公司也將繼續(xù)將目光聚焦于填補(bǔ)部分國(guó)家高端裝備的空缺,為大眾提供更好用更實(shí)惠的產(chǎn)品。
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