電化學(xué)顯微鏡是顯微鏡的一種，基于電化學(xué)原理工作，可測量微區(qū)內(nèi)物質(zhì)氧化或還原所給出的電化學(xué)電流。利用驅(qū)動非常小的電極(探針)在靠近樣品處進(jìn)行掃描，樣品可以是導(dǎo)體、絕緣體或半導(dǎo)體，從而獲得對應(yīng)的微區(qū)電化學(xué)和相關(guān)信息，目前可達(dá)到的高分辨率約為幾十納米。可用于研究導(dǎo)體和絕緣體基底表面的幾何形貌；固/液、液/液界面的氧化還原活性；分辨不均勻電極表面的電化學(xué)活性；研究微區(qū)電化學(xué)動力學(xué)、研究生物過程及對材料進(jìn)行微加工。
掃描電化學(xué)工作站(電化學(xué)顯微鏡)是市場上競爭性的單通道電化學(xué)工作站。掃描電化學(xué)工作站可通過計算機的USB接口或以太網(wǎng)來連接控制?？山尤刖钟蚓W(wǎng)內(nèi)，經(jīng)*的計算機可以進(jìn)行遠(yuǎn)程訪問。同時，它具有兩個模擬輸入和一個模擬輸出，用來控制外部儀器，如旋轉(zhuǎn)圓盤電極或石英晶體微天平以及記錄所生成的數(shù)據(jù)。
電化學(xué)顯微鏡保護的條件：
1.所用材料和介質(zhì)的多樣性，須根據(jù)每一保護系統(tǒng)的具體條件以及每一操作階段的特定狀況確定自然腐蝕電位與保護范圍。
2.質(zhì)與要保護的構(gòu)筑物的表面積之比明顯低于外部微區(qū)掃描電化學(xué)保護。因此，電流分布特別是在無防腐層表面上的電流分布受到了限制。帶有插入構(gòu)件結(jié)構(gòu)復(fù)雜的設(shè)備的內(nèi)部電化學(xué)保護尤其困難，只能靠增加電極數(shù)量以及恰當(dāng)安排多支保護電極才可能達(dá)到均勻的電流分布。
3.部電化學(xué)保護中必須考慮到要保護的構(gòu)筑物上與輔助電極上的電化學(xué)反應(yīng)與相應(yīng)的一連串的反應(yīng)，必須根據(jù)電解質(zhì)和其純度純度要求選擇微區(qū)掃描電化學(xué)保護的類型和輔助陽極的材料；必須查明正在發(fā)生什么電解質(zhì)反應(yīng)以及這些反應(yīng)發(fā)展到什么程度就會造成有害影響。
4.防腐層時，無論是已經(jīng)涂敷的還是計劃采用的，必須確定它們是否具有必要的穩(wěn)定性以承受保護電流的電化學(xué)作用。
5.保護電流的作用或者由于犧牲陽極的自腐蝕，能夠析出氫氣，其可能形成可以爆炸的氣體混合物。假如陽極需要插進(jìn)氣相空間，此時不得使用具有催化活性的貴金屬陽極或者有貴金屬鍍層的陽極。從安全考慮，應(yīng)當(dāng)避免使用具有催化活性的貴金屬陽極。
6.入構(gòu)件與要保護的構(gòu)筑物實現(xiàn)電絕緣并且不包括在微區(qū)掃描電化學(xué)保護的范圍內(nèi)時，應(yīng)當(dāng)確定此保護電流是否會導(dǎo)致破壞性干擾和采取什么保護措施。
7.確定當(dāng)操作不穩(wěn)定時，以及當(dāng)溫度與電解質(zhì)濃度發(fā)生變化時是否需要采取特別措施。
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