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半導(dǎo)體的污染雜質(zhì)和分類一

閱讀:378      發(fā)布時(shí)間:2022-2-16
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半導(dǎo)體制造中需要一些有機(jī)物和無機(jī)物參與完成,另外,由于工藝總是在凈化室中由人的參與 進(jìn)行,所以半導(dǎo)體圓片不可避免的被各種雜質(zhì)污染。根據(jù)污染物的來源、性質(zhì)等,大致可分為顆粒、有機(jī)物、金屬離子和氧化物四大類。

1.1 顆粒

顆粒主要是一些聚合物、光刻膠和蝕刻雜質(zhì)等。這類污染物通常主要依靠范德瓦爾斯吸引力 吸附在圓片表面,影響器件光刻工序的幾何圖形的形成及電學(xué)參數(shù)。這類污染物的去除方法主要以物理或化學(xué)的方法對顆粒進(jìn)行底切,逐漸減小其與圓片表面的接觸面積,最終將其去除。

1.2  有機(jī)物

有機(jī)物雜質(zhì)的來源比較廣泛,如人的皮膚油脂、細(xì)菌、機(jī)械油真空脂、光刻膠清洗溶劑等。這類污染物通常在圓片表面形成有機(jī)物薄膜阻止清洗液到達(dá)圓片表面,導(dǎo)致圓片表面清洗不*,使得金屬雜質(zhì)等污染物在清洗之后仍完整的保留在圓片表面。這類污染物的去除常常在清洗工序的步進(jìn)行,主要使用硫酸和雙氧水等方法進(jìn)行。

PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)儀采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測和分析,目前是英國普洛帝分析測試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。


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