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技術(shù)文章
頂空技術(shù)的分類
點擊次數(shù)：331 發(fā)布時間：2014-11-30
頂空技術(shù)的分類
頂空技術(shù)依據(jù)其不同的取樣和進樣方式可分為：
靜態(tài)頂空：將樣品放置在一密閉容器中，在一定溫度下放置一段時間使氣液兩相達到平衡，取氣相部分進入GC分析，有稱平衡頂空或者一次氣相萃取。
動態(tài)頂空：在樣品中連續(xù)通入惰性氣體，揮發(fā)性組分即隨該萃取氣體中樣品中溢出，然后通過一個吸附裝置（補集器）將樣品濃縮，zui后再將樣品解吸進入氣譜分析。這是一種連續(xù)的多次氣相萃取，直到樣品中的揮發(fā)性組分*萃取出來
方法優(yōu)點缺點
靜態(tài)頂空
1、樣品基質(zhì)（如水）的干擾極小
2、儀器較簡單，不需要吸附裝置
3、揮發(fā)性樣品組分不會丟失
1、靈敏度稍低
2、難以分析較高沸點的樣品
動態(tài)頂空1、可將揮發(fā)性組分全部萃取出來，并在捕集裝置中濃縮后分析
2、靈敏度較高
3、比靜態(tài)頂空應(yīng)用范圍更廣，使 用于沸點較高的組分1、樣品基質(zhì)可能干擾分析
2、儀器較復(fù)雜
3、吸附和解吸可能造成樣 品組分的丟失